集成电路封装材料-硅通孔相关材料-

硅通孔相关材料基于硅通孔（TSV）的3D封装技术发展:高性能、低功耗、低成本方向发展真的。

TSV技术：通过在芯片和芯片之间制造垂直通路，从而形成电气连接的新型互连技术。采用TSV技术能够实现芯片在三维方向的堆叠，从而提高系统集成度，缩短芯片之间的互连长度，改善信号传输速度和质量，降低功耗。图6-1不同元器件在三维方向上基于TSV的堆叠集成TSV技术涉及的材料：除打孔的硅基体材料和填孔材料等关键主材料外，在工艺过程中还包含绝缘层、黏附层和种子层材料等相关材料。图6-2

TSV各层结构示意图目录6.1绝缘层6.2黏附层和种子层6.1.1

绝缘层在先进封装中的应用6.1.2绝缘层材料类别和材料特性6.1.3发展现状及趋势6.1.4新技术与材料发展6.1绝缘层6.1.1绝缘层在先进封装中的应用两方面：（1）作主TSV侧壁的绝缘层，硅是半导体材料，TSV内要填充导电材料，需要在孔刻蚀之后，首先在其侧壁沉积一层缘缘层，从而实现导电材料与硅衬底间的绝缘。（2）作为圆片级封装介质层，在3D封装技术中用于金属再布线层间的介电隔离。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性包括无机介质绝缘层材料和聚合物绝缘材料无机介质绝缘层材料主要用于TSV侧壁绝缘聚合物绝缘层材料主要用于圆片级封装的介质层各有特性6.1.2绝缘层材料类别和材料特性1）无机介质绝缘层材料SiO2由于优秀的介电性能、化学稳定性及成熟的制造工艺，被广泛应用于3D-TSV集成技术领域作为TSV侧壁绝缘层材料。衬底是无源衬底，对温度没有限制，可以使用热氧化工艺，在TSV侧壁生长高质量氧化硅层。如果衬底上含有有源器件，对工艺温度有限制，可以采用低温化学气相沉积方式。化学气相沉积是目前主流的TSV介质层解决方案，前驱体以气相形式流经真空腔被热量或等离子体解离后，沉积到衬底上形成无定形态薄膜。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性1）无机介质绝缘层材料前驱体包括：硅烷（SiH4）、正硅酸乙酯（TEOS），最终得到无机氧化硅绝缘层薄膜。通过调节工艺过程中的压力、流速、衬底温度等参数可以优化薄膜的厚度、折射率、湿制程中的刻蚀速率、薄膜应力、台阶覆盖率等关键物理特性。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性薄膜温度/℃气体厚度/nm应力/MPa台阶覆盖率Thermaloxide700～1150O2、H25～1000400～500高PECVDoxide150～400SiH4、N2O—150低PECVDTEOS250～400Si(OC2H5)4、O250～5000100～200中SACVDozone-TEOS400Si(OC2H5)4、O3150～500100～200高LPCVD650～750Si(OC2H5)420～50080～120高PSG/BPSG400～750Si(OC2H5)4、PH3,TMB300～900—中高表6-1氧化硅绝缘层薄膜及关键物理特性台阶覆盖率是在集成电路工艺中，用于衡量热氧化成膜、薄膜沉积、涂胶等工艺中膜层跨台阶时在台阶处厚度损失的一个指标，就是跨台阶处的底部膜层厚度与顶部平坦处膜层厚度比值的百分数。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性1）无机介质绝缘层材料次大气压化学气相沉积（Sub-AtmosphericCVDSACVD）工艺由于沉积温度和保形涂覆特点，尤其适合3D集成工艺要求。通过TEOS-PECVD技术制造氧化硅绝缘层材料是当前TSV技术绝缘层制造的主流技术。具有良好的介性性、绝缘性、热稳定性、化学稳定性，又具有低温沉积的特点。广泛应用于2.5DIC或3D

IC集成技术领域。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性2）聚合物绝缘层材料是当前圆片级封装介质层的主流材料，已经具有比较成熟的工艺和材料处理方案。3D封装要求聚合物绝缘层材料具有更高的光刻分辨力，并且适应3D封装工艺对晶圆翘曲和热预算控制的要求。3D封装技术主要是采用聚合物绝缘层材料在芯片或中介转接层上制造多层金属互连结构。SiP通常把多个裸芯片封装在同一系统，形成多功能组件。3DSiP系统主要采用聚合物绝缘层材料作为层间介电薄膜，在中介转接层上制造电路层。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性2）聚合物绝缘层材料采用3D封装技术，多芯片集成电路系统的芯片之间距离非常小，各层芯片间通过通孔金属化实现电气连接。可以大幅缩短多层互连长度，提高系统整体性能。聚合物绝缘层材料作为金属再布线层的介电层、钝化层和缓冲保护层，可以有效阻挡电子迁移、防止HCl/盐的化学腐蚀，增加元器件的机械性能，保护元器件，降低漏电流，还能有效地阻挡潮气。缓冲功能，可以减少热应力引起的线路断裂，防止元器件在后续加工过程中产生损伤。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性2）聚合物绝缘层材料当前的WLP技术可以利用聚合物绝缘层材料在晶圆上制造多层布线，显著提高元器件间的连线密度，减少信号延迟，大幅提高电路传输速率、系统集成度和可靠性。结合聚合物绝缘层材料低介电常数、自平坦化及优良的光刻性能，加之铜的高电导率和抗电迁移性能，WLP技术实现IC的低成本和小型化。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性2）聚合物绝缘层材料对于TSV侧壁缘缘层材料，聚合物绝缘层材料也可以作为TSV侧壁绝缘层材料使用，通过喷涂、旋涂或纳米喷涂技术可以在TSV侧壁形成绝缘层，具有成本低、有效降低TSV结构应力特点。受工艺限制，难在深宽比大于3:1的TSV结构中个形成均匀的缘缘膜，但成本上有优势。聚合物绝缘层材料在使用时，其光刻分辨力、拉伸强度、弹性模量、热膨胀系数、固化温度、涂覆的均匀性等因素都很关键，对材料的要求比较主。6.1.2绝缘层材料类别和材料特性2）聚合物绝缘层材料光敏性聚合物是聚合物绝缘层材料的代表，在3D封装中作为绝缘层得到广泛应用。光敏聚合物具有低应力释放、较低的热膨胀系数、较高的耐热性和工艺精度，且旋涂和喷涂工艺简单，设备成本优势明显。光敏聚合物的开发技术含量高，开发周期长，原料纯度和种类要求苛刻。6.1.3发展现状及趋势SiO2作为TSV侧壁绝缘层材料，客户群包括Samsung,TSMC，美光（Micro），IBM，Intel,海力士（Hynix），意法半导体（STMictoelectronics），Aptina,豪威科技（Omnivision）等设备供应商：美国AppliedMaterials英国SPTS及中国的沈阳拓荆。对于无源中介转接层，TSV孔径将会从当前的10~15mm缩小到1~5mm，深宽比达到15:1甚至20:1。开发设备，保证覆盖率。有源TSV上还要有工艺兼容性。6.1.3发展现状及趋势比如，WLCSP图像传感器封装，要求沉积温度低于200oC。低温下高台阶覆盖率绝缘层主要通过TEOS源氧化硅CVD或聚合物材料CVD获得。使用TEOS源，可以在深宽比达到10:1的孔内，在200oC以内的温度下，获得超过15%的台阶覆盖率。国内TSV-CIS封装，采用聚合物材料作为绝缘层。在高深宽比的TSV-CIS封装集成技术中，聚合物绝缘层工艺受到限制，要采用TEOS-PECVD方法沉积氧化硅来制造绝缘层，该技术方案处于研发阶段，没有得到大规模量产。6.1.3发展现状及趋势无源硅中介转接层TSV技术在国内尚处于起步阶段，还没有应用于实际产品中。TSV技术上实现突破将是国内封装测试产业在未来封装领域实现创新的重要方向。6.1.3发展现状及趋势国内应用于高深宽比TSV结构中制造能够满足绝缘性要求的氧化硅材料设备供应商只有沈阳拓荆科技有限公司。该公司TEOS-PECVD设备已达到世界先进水平，已销售给苏州晶方半导体科技有限公司和华天科技（昆山）电子有限公司。PECVD设备沉积温度为400oC，可实现深宽比10:1，孔径10

mm的TSV结构中沉积氧化硅绝缘层，台阶覆盖率达20%。未来TSV孔径会缩小到1~5

mm，深宽比大于15:1。这对PECVD设备提出了严峻考验，氧化硅绝缘层覆盖率需进一步提升。6.1.3发展现状及趋势目前，WLP光敏性聚合物绝缘层材料全部被国外厂商垄断。商场上供应产品有RohmandHass的InterViaTm8000系列，DowChemical的CycloteneTM4000系列，Microchem的SU-8环树脂材料，Dow

Corning的WL-5000有机硅系列，Promerus的Avatrel®；ShinEtsuMicroSi的SINR系列，Sumitomo

Bakelite的SUMIRESINEXCEL®CRC-8600、8650、8903等，FujiFilm的AP2210、AN-3310和Durimide7000聚酰亚胺（PI）系列，东丽株式会社（Toray）的PhotoneeceTM

PI系列，HD

Microsystem的PI系列，Tokyo

Ohka

Kogyo的TMMRS2000，JSR

Micro的WPR酚醛系列。6.1.3发展现状及趋势以上产品中所用树脂主要是酚醛环氧树脂，丙烯酸酯改性环氧树酯、酚醛树酯、有机硅树酯、PI树脂、PBO树酯、BCB树脂等且部分产品加入了纳米填料。6.1.3发展现状及趋势喷涂工艺（SprayCoating）用来制造低深宽比的TSV缘缘层，在图像传感器中得到了应用。常用喷涂设备国外供应商主要包括EVG和SUSS，国内供应商（沈阳芯源）正在逐渐占领我国集成电路市场。能采用喷涂工艺的材料，除传统的有机光阻外，还包括PI、BCB等聚合物浆料。黏度控制在20cst(里斯)以下。EVG101机台配置Nano喷嘴，采用超声波震动原理雾化，可以实现深宽比为5:1、孔径为20

mm的TSV聚合物绝缘层制造，有望在2.5D中介转接层中实现应用。6.1.3发展现状及趋势旋涂工艺相比CVD和喷涂工艺，具有设备成本低等显著优势，但加工超过5:1深宽比的TSV时具有较大挑战。开发具有旋涂工艺的聚合物材料成为关键研究方向。聚合物材料具备低触变性、防流动性和保形涂覆等特点。可围绕材料主体树脂、功能性纳米填料及关键助剂等展开研究。中科院深圳先进技术研究所相继推出2:1和3:1适用于旋涂工艺的聚合物材料，研究5:1。6.1.3发展现状及趋势国内WLP聚合物绝缘层材料的研究与国际上存在明显差距。目前尚无成功商业化成熟产品。不完全统计，国内研究和应用PI有50多家，其中从事研究生产的有20家，但主要产品仍然是薄膜、塑封料、涂层、胶黏剂、纤维泡沫等。为打破国外垄断，开发具有知识产权的光敏性聚合物绝缘层材料显得尤为必要，随着3DWLCSP封装的发展，光敏性聚合物绝缘层材料的市前景广阔。6.1.4新技术与材料发展新型沉积技术1）高分子聚合气相沉积技术PVPD将CVD应用于聚合反应是一种新的聚合方法，称为气相沉积聚合。与传统高分子薄膜制造方法（如湿法工艺）相比优点：（1）不含溶剂、添加剂、引发剂等，纯度高，对衬底不产生损伤。（2）可以控制薄膜厚度，通过选择适当的沉积速率和时间，可得到所需厚度。（3）薄膜质量好，膜厚均匀，表面光滑无针孔，且可以沉积在不同形状的表面上，保形性好。（4）聚合与成膜工艺合二为一，简化了制造流程。6.1.4新技术与材料发展聚对二甲苯（Parylene，又称派瑞林）是一种典型采用气相沉积聚合方法制造的聚合物，具备优异的介电性、扩散阻挡性、化学稳定性及界面结合力，成为电子元器件中常用的薄膜材料。图6-3Parylene聚合反应方程6.1.4新技术与材料发展AIXTRON公司发明PVPD（PolymerVaporPhaseDeposition）技术，可以通过控制气相沉积得到聚合物基薄膜材料，解决了常规喷涂、旋涂等工艺难以在深宽比大于3:1的TSV结构中形成均匀聚合物绝缘膜的难题。6.1.4新技术与材料发展（平台尺寸为200mm

200mm，适用于研发）（平台尺寸为650mm

750mm，适用于量产）

图6-4PRODOS系列PVPD设备6.1.4新技术与材料发展PVPD技术将材料的先驱体在一个特制的、优化的源系统中汽化，被汽化的先驱体通过惰性霸气提供给沉积设备。载气作用是控制气体传输的流量，使先驱体浓度保持稳定。通过AIXTRON公司的专利技术，即紧密耦合莲蓬头技术，可以在不同尺寸衬底上沉积或进行批量担任，还可以精确控制所提供材料的数量来沉积复杂的化合物。由于灵活模块化设置，该技术可以优化各种聚合过程，精确控制沉积膜的厚度，应有范围广泛，同时由于工艺过程是无溶剂过程，干燥步骤不再是必需的。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术电接枝与化学接枝是两种基础分子工程技术。接枝（Crafting）的意思是在衬底表面与在其上生长的薄膜之间形成紧密的分子级化学键，这是通过氧化或还原等化学反应实现的。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术图6-5自由基聚合电接枝工艺示意图6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术首先通过电诱导过程实现聚合物接枝过程，然后进入化学扩展阶段。电诱导过程对于在聚合物与衬底表面之间形成化学键至关重要，有机前驱体B被用来形成接枝层的底层，同时起到激发溶液中单体A发生聚合反应的作用。当聚合反应完成时，大分子链-[A-A-A]n-B结构在底部接枝层上接枝。化学接枝与电接枝原理相同，只是接枝过程中的电子被还原剂取代，化学接枝可以应用于非导体材料表面的薄膜制造。结合电接枝和化学接枝两种温法工艺，可以实现高深宽比TSV中绝缘层、扩散阻挡层和种子层的制造。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术电接枝技术是一种基于表面化学配方和工艺的纳米技术解决方案。可用于导体和半导体表面，通过特定先驱物分子与半导体表面之间的原位化学反应的激发作用，各种薄覆盖层自定向生长。属于湿法工艺，与电镀或喷涂工艺不同，其化学反应发生在硅片表面，不发生在电解容器或电解槽中，各种物质被直接还原到晶圆表面，最终的稳定不呈溶液形式；膜是从硅片表面向上生长的，而不会沉积到硅片表面，从晶圆到籽晶层形成具有高黏着性的共价键薄膜堆叠。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术电接枝膜能与各种形状的表面保持共形，整体工艺（绝缘、势垒、籽晶）均使用标准电镀工具，可大幅降低工艺成本；在深宽比超过20:1的TSV中形成金属膜的台阶覆盖率高达90%，且具有极好的黏着性和均匀性，可以满足各类电和热力性能要求。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术参数数值单位/方法台阶覆盖率高达90%

层厚50～500nm孔径1～100

m最大深宽比>20:1

黏着性所有层均通过了划线剥落试验

绝缘体介电常数3

绝缘体击穿电压28MV/cm绝缘体的CTE30ppm/℃绝缘体的电阻率25

Ohm·cm（100nm）Cu籽晶的电阻率1.8

Ohm·cm（200nm）势垒扩散特性与TiN等效2h，400℃绝缘体温度稳定性2h，400℃TOF-SIMS绝缘体的弹性模量4（折减模量）GPa表6-2电接枝膜的具体参数6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术电接枝工艺中，来源于偏置表面的电子可充当先驱物分子的“键合籽晶”，在第一层籽晶先驱物和晶圆表面之间形成共价化合键。不需要使用喷涂或旋涂工艺就可以将聚合物绝缘层直接“接枝”到晶圆表面。形成电接枝层可以作为绝缘层，如果采用化学接枝技术进行势垒层沉积，刚电接枝层可以用作黏接促进剂。6.1.4新技术与材料发展2）电接枝技术化学接枝与电接枝技术的原理相同，用于非导体表面。采用化学接枝技术可以改进势垒和聚合物之间的黏着性，首先选择专用化学材料把势垒催化剂与聚合物牢固地键合在一志，然后将湿铜籽晶电接枝到导电势垒上。高深宽比的TSV也可以实现较高的台阶覆盖率。薄膜生长速率及厚度分别受到电流密度和电荷的影响，化学电解槽需要保持稳定。6.1.4新技术与材料发展3）新材料Parylene薄膜是一种可用于高深宽比TSV侧壁覆盖的有机聚合物材料。采用气相沉积工艺制造，具有厚度均一、耐酸碱、低介电常数和无色透明等优点。制造流程包括对二甲苯首先在真空腔中加热汽化，然后流经高温区裂解成对二甲苯的单体，最后室温沉积聚合成Parylene薄膜。商化业产品：ParyleneN、ParyleneC、ParyleneF三种。保形覆盖且具有良好的台阶覆盖率，致密性，防止水汽渗透，显著提高耐湿热能力。6.1.4新技术与材料发展3）新材料

ParyleneNParyleneNParyleneCParyleneFParyleneF机械特性抗拉强度/MPa454545～555252断裂延伸/%40402001010杨氏模量/MPa2.42.43.22.62.6密度/（g/cm3）1.111.111.28

吸水性/%＠24h0.010.01<0.01<0.01<0.01电学特性介电常数＠1MHz2.652.652.952.17介电损耗＠1MHz0.00060.00060.0130.001典型阻挡特性水汽渗透/（g·mil/100in2）＠24h，37℃，90%RH1.50.21

典型热学特性熔点/℃410410290

Tg/℃200～250200～250150

CTE/（10-5/℃）696935（退火后为50）3636导热系数/［10-4（cal·s-1）/（cm2·℃·cm-1）］332

表6-3Parylene薄膜的物理特性6.1.4新技术与材料发展3）新材料采用等离子体聚合沉积的有机薄膜BCB可用于中介转接层TSV绝缘层的制造。液态前驱体升华成单体，控制单体蒸气气压和等离子体化学气相沉积的射频参数，可显著提高BCB薄膜的热稳定性和台阶覆盖率，满足高深宽比TSV绝缘层保形涂覆要求。6.2.1黏附层和种子层在先进封装中的应用6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性6.2.3新技术与材料发展6.2

黏附层和种子层6.2.1黏附层和种子层在先进封装中的应用TSV的填充工艺主要是电镀铜工艺，在TSV电镀铜之前，需要先在TSV内壁溅射一层种子层，铜的填充效果在一定程度上依赖于种子层的厚度、均匀性及薄膜的深孔台阶覆盖率。种子层是电镀填充的必备条件，主流种子层为铜种子层，采用的种子层材料为铜靶。铜在SiO2介质中的扩散速率很快，介电性严重退化；6.2.1黏附层和种子层在先进封装中的应用铜对半导体的载流子具有强烈的陷阱效应，扩散到半导体本体材料中将严重影响集成电路元器件电性特征；铜和SiO2黏附强度较差，在制造种子层之前一般要先沉积一层黏附/扩散阻挡层，以防止铜扩散、增加种子层与衬底的黏附力和提高深孔台阶覆盖率。黏附/扩散阻挡层一般选择Ti,TiW,Ta,TiN,TaN材料，其主流工艺为PVD。6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性主要材料是磁控溅射靶材。PVD腔体是经过改进的腔体，以适应高深宽比TSV工艺要求，靶材一般需要根据腔体特点进行结构调整。根据TSV技术的性能要求研究靶材的成分、构造、制造工艺及其溅射薄膜性能之间的关系，对充分发挥靶材的作用十分重要。TSV种子层靶材：高纯铜靶材和铜合金靶材。铜合金靶材可以增加溅射靶用铜材料的粒径均匀性并提高其强度，靶内合金元素含量不超过10wt%。特殊应用，比如铜薄膜和内部互连线，其电阻率要与高纯铜的电阻率匹配，合金元素含量小于3wt%6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性黏附层一般选择Ti、TiW等材料，扩散阻挡层一般选择Ti,Ta,TiN,TaN等材料。TSV晶圆尺寸一般不小于8英寸，随着晶圆尺寸的增大，对溅射靶材的微观组织及靶材与背板连接的要求越来越高。大面积靶材与背板连接技术已成为靶材组件制造的关键技术。靶材需要优良的导电性、导热性，靶材与背板的连接要有一定的结合强度，有较高的热导率、电导率。靶材晶粒经变形处理后，应细小均匀，不能在焊接过程中发生改变。6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性靶材中杂质大部分是在电解、熔炼和铸造过程中产生的。高纯铜铸锭，杂质主要包括Ag,

As,

Al,

Bi,

Fe,

Ni等元素。若杂质元素过多，在溅射过程中晶圆表面会形成微小的颗粒，从而导致互连线短路或断路，并影响薄膜的生长质量。尽量减少靶材中杂质含量，以减少其对沉积薄膜的污染，提高薄膜的质量和均匀性。6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性高致密度铜靶材具有导电导热性好，结合强度高，有效溅射面积大，表面变化少等优点。改善这些性能，可以在较小测射功率下，实现较高的成膜速率，形成电阻率低、透光率高的薄膜。6.2.2黏附层和种子层材料类别和材料特性镀膜质量稳定性取决于靶材成分的均匀性。高纯铜靶材微观组织结构及均匀性、晶粒的尺寸及取向分布都会对靶材的性能产生很大影响。晶粒尺寸越小，镀膜厚度分布越均匀，溅射速率越快。铜合金靶材，第二相的尺寸分布及是否存在成分偏析等都会影响最终溅射薄膜的均匀性。6.2.3新技术与材料发展传统PVD设备无法对高深宽比TSV进行有效沉积，必须使用改进型PVD腔体才能保证高深宽比TSV种子层的连续性。为制造连续均匀且具有良好台阶覆盖率的扩散阻挡层和种子层，正在研发新的沉积技术，包括化学镀(Electroless

Plating)、ALD技术。ALD技术自1977年发明以下，应用领域在扩大，是一种能够在表面均匀、连续沉积薄膜的技术。ALD技术周期性的通往前驱体，通过表面饱和和自停止反应逐层生长薄膜，能够精确控制薄膜的厚度并保证薄膜的均匀性、共形性及连续性。6.2.3新技术与材料发展ALD技术是一种先进的纳米表面处理技术，可以制造的薄膜范围广泛，包括金属氧化物、金属氮化物、硫化物和磷化物等，具有广阔和应用前景TiN和TaN等薄膜材料不仅具有优异的扩散阻挡作用，还可以作为铜电镀的种子层。非常适合在高深宽比的TSV中制造连续性