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文档简介

针x

线

Electron

Probe

Microanalysis

4.

针x射

线

析电子探针仪

(EPMA)

种微区成分分析

仪器

。■采

被聚

于1

um的高速电子束轰

击样品表

面,

利用电子束与

样品相互

用激发出

的特

征x射线,测量其

λ和

I,确定

微区的定

性、定

量的

。SEM-EPMA组

合型仪器,具有扫描放大成

像和微区成分分析两方面功能。λ与样品材料

的Z

,测出

λ,

可确定相应元素

的Z。具有足够能

量的细电子束轰

,

激发

征x

线

其波长为:4.1工

理某种元素

的特征x

射线强度与该元

素在

品中

的浓度成比例

出x射线I,就

计算

出该元

的相

量。工

理主要

有柱

(

)

、x

线谱仪

纪录显

示系

。镜筒包括电子光学系统、样品室、OM

等。EPMA与

TE

M大体相似,增加了检测特征x

射线

λ和I

的x射线谱仪

—波

仪、能

。4

.

2

造X-Y记

仪荧光

屏打

印机信号探测器样

品oQ放前

放大器信

器多

器大

器WDSEDSX-ray

谱仪(

1

)

WDSWavelength

DispersiveSpectrometer通过衍射分光原理,

量x

射线的

λ分布

及I。■

已知d的

(分

晶体),

x射线

,在特定位置

。由布拉格

律,从试样中发出的特征X射线

经一定晶面间距的晶体分光,

的特征X

射线将有不同的衍射角。■连

0

,在与X

射线入射方向呈20

的位置上测到不同波长的特征X

射线信号

。■由莫塞莱定律可确定被测物质所

元素

。工

理专

门用来对x

线

(

)

晶体,

具有

良好

的衍射性能、强

的反射能力和好的分辨率。晶体展谱

程,对于不

λ的x

射线,

需要选用与其波长相当的分光

晶体

。为

了提高接

收X射线强度,分光晶体通常

使用弯曲

晶体

。分光晶体弯

约翰型聚焦法:

晶体曲率半径是聚焦圆半径的两倍■约翰逊型聚焦法:

晶体曲率半径和聚焦圆半径相等两种聚焦方法(a)

约翰型聚焦法

(b)

约翰逊型聚焦法(b)(a)约翰型:

的X射

线

源S外发出时

点A、

B、C

接收到的X射线相对于点光源来说,入射

角都相等,

此A

、B

、C各点的衍射线都

在D点附近聚焦

。■

因A

、B

、C三点的衍射线并不恰在一点,

是一

似的聚焦

。约翰逊型

A

、B

、C三

的衍射束正好

在D点

叫做完全

法两种聚焦方式波

谱Afnm分

度慢单个元素测量,

做全分析时间较长。■分

率高

10eV谱仪分辨率是指分开、识别相邻两个谱峰的能力。

测量精度高,

多用于超轻元素Z<9测量。■

大背底扣除容易,

数据处理简单。■分析

范围:

4

Be-92U■

样品

表面

整、

。WDS

特点:(

2

)

EDSEnergy

DispersiveSpectrometer利

用固态检测器

(

)

个x射线光

子的能

量,

按E

大小

。■得到以能

标、强

标的x射线能

谱,

显示

。锂漂移硅半导体探测器,

习惯记Si(Li)探测器。X射线光子进入

Si

晶体内

,产生电子

-空穴对,

在100

K左右温度时,

每产生一个电子-空穴对消耗的平均能量为3.8eV。

能量为E的X射线光

子所激发的电子-空穴对数N为N=E/ε入射X射线光子E不同,

激发的N

不同,探测器

由N决

。工

理Spectrum1

KLMLabel

StrontiumTitanateVFS:40(

antime

SCursor:

3.781

keV,

86

cts.4000Spectral

DisplayFile

View

Acquire

Display

Process

Analyze

Tools

SchedulesCu0.000

keVDeadtime:SeC

PHADeadtime:10%log

H

i2

排□ounts11.800山NaC1

谱Energy(keV)■

度快■

分辨

较低:

150eV■峰背比小谱峰宽、

易重叠,

背底扣除困难,

数据处理复杂■分析元素范围:11

Na-92U■进行

倍扫

像,

大视

域的元素

布图

。■对

样品污染作用小■适于

析不受聚焦圆的限制,样品的位置可起伏2

3mm■

:探测器须在液氮温度下使用,维护费用高。EDS

特点:WDS与

EDS比

较WDS分析元素范围广、分辨率高、适于精确的定量分析,

对样品表面要求高、分析

速度慢,

易引起样品和镜筒的污染

。EDS在分析元素

范围、分

面略

,分析速

快、对

样品表

高、可

用较小的束流和细

微电子束,

与SEM

使用

。强度(计数率波长λ/nm强度(计数率能

E/keV波

仪NTENSITY(counts)→A

VI

EI

_ENGTHY

(ke'

V)(

)ENERGW波谱

仪的晶体分

特点,对

λ的X

射线不仅可以在探

测到n=1

级X

线

,

同时可在

0

到n

为不同值的

线

。波谱定

如能

单、直观,

就要求

对波

辑的分析,

。SKa(n=1)存

0

.

5

3

7

2nm处

,CoKa(n=

1

)

0

.

1

7

8

9nm处

,CoKa(n=3)的三级衍射在3×0

.

1789nm=0.5367nm

故SKα的一

级线

和CoKa的三级线非

法区分

。GKα

CoKα具有不同的能

使探

输I出不同电压脉冲幅度。CoKα是SKa

的3倍

,根

据SKa电压脉冲信号

置窗口电压,通过

脉冲高度分析器排除CoKα

的脉冲,从

使谱

0

.

5

3

7

2

nm处仅存

在SKα

线

。例

:比较项

目WDSEDS元

范围4Be~9₂U11Na~g₂U/₄Be~9₂U元

法能

/

e

V

灵敏度检测效率定

度仪

性分

光晶

析高

(3/

5

10

)低低,随

化好多

光晶

体固

素同时

测低

(

160/135)高高,

数差探

却EMPA对样品尺寸大小、导电性、预处理的要求与TEM相同,

除此之外,

应注意:①

定量分析的样品,表面必须抛光以保证平整、

光滑

。②

光学观察进行侵蚀的样品,应控制侵蚀程度。③

样品表面清洁,

防止污染。

(机械抛光、

化学

试剂、表面氧化膜和碳化产物、残存的污染)4

.

3

备定性分析:记

样品

射的

征x射

线

λ

。对比单元素特征谱线波长,

确定样品中的元素。■

量分

:记录样品发射的特征x射线λ和I。每种元素选择一

根谱线与已知成分纯元素标

样的

同根谱线进行比较,

确定元素含量。4.4分

法(

1)

定点元

素全

(

定量)■电子束

固定在分析

的某

(微

区),改变晶体的衍射角,记录该点不同元素的x

射线λ和I。■谱线强

度峰的位

长→

微区

有元

素元素某一谱线的强度→元素

的含量基本工作方式

:微

析200

nmλ/nm合金钢(0.

62Si,1.11Mn,0.96Cr,0.56Ni,0.26V,0.24Cu)定点分析的谱线图(2)

线

描分

析聚

焦电

沿一

线

描,

时检测某一指定特征x射线的瞬时I,

得到特征x射线I沿试样扫描线的分布。

(

元素

的浓

度分

)■直

接在

SE

像、

BE

上叠加,显示扫描轨

和x

线I分布曲线,直观反映元

度分布与组织结构之间的关系。可以很快显示浓度与

离的关系曲线

若以微米级逐点分析,

可相当精

测定扩散系数和激活能。集与

化是十分有效的。■垂直

散界

面的方向上

进行

线

,■对于测

和晶界上的富线

析线

析(3)

描分

析电

进行

描,

谱仪只

检测

素的特

征x

线

置,

得到由

许多亮点组成的图像。亮点为元素的所

在处,根据亮点的疏

度可确定元素

在试样表面

的分

布情

。准确显

不同的夹杂物的

,定性显示元

素偏

析。面

析亮区代表元素含

量高,

灰区代表元素含量较

黑色区域代

。线扫描、面扫描要求样品表面平整,

否则出现

假象

。■线扫描、面

描只作定

析,

不作定量分析O■定量

析是

。原因是:

谱线强度与元素含量有关外,

样的化学成分

关,通

体效

应”

,

谱仪对不

同波长

(或

能量

)

X

线

效率不

。注

:Energy(kev)CalciumYttriumNickelcouns■

损的

微区

析,特别

。■

微区、

粒、

量的

析元

范围

广、

高、

点,

在各领域

广

用。

(冶金、材料

、生

物、

医学、

考古

)4

.

5

用组分

样的

微区

析■扩散对试样中成分梯度的测定■

相图

低温

面的

定■金

/

半导

物应

例其

镜主要用于表面原子成象

(

导体)STM的横向分辨率高

达1

Ä

,

向分辨率10

Ä。

子的

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