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文档简介

科易美治理信息技术KoimyManagementTech基于PCB制造业的整体解决方案您可以信任的ERP系统治理专家关于阻抗掌握设计方面的一些建议随着通信科技的不断提升,必定对PCB的要求也有了相应的提高,传统意义上PCB已受到严峻的挑战,以往PCB的最高要求open&short从目前来看已变成PCB的最根本要求,取而代之的是一些为保证客户设计意图的表达而在PCB上所表达的性能的要求。如阻抗掌握等。深南电路公司作为中国大陆最早为通信企业供给PCB的厂商,在1997年就对该课题进展争论和开发。到目前为止有“阻抗”掌握的PCB已广泛的应用于:SDH、GSM、CDMA、PC、大功率无绳、手机等同时也为国防科技供给了相当数量的PCB。随着“阻抗”的进一步拓展和延长,我们作为专业的PCB厂商,为能向客户供给合格的产品和优质的效劳对该类PCB的合作方面做如下建议。就PCB的阻抗掌握而言,其所涉及的面是比较广泛的。但在具体的加工和设计时我们一般掌握其主要因素,具体而言:Er--介电常数H---介质厚度W---线条宽度t---线条厚度微条线〔Microstrip〕Z0=[87/(Er+1.41)½]Ln5.98h/(0.8w+t)带线〔Stripline)Z0=[60/Er½]Ln4h/[0.67w(0.8+t/w)]Er〔介电常数〕就目前而言通常状况下选用的材料为FR-4,该种材料的Er特性为随着加载频率的不同而变化,一般状况下Er的分水岭默认为1GHZ〔高频〕。目前材料厂商能够承诺的指标<5.4〔1MHz)依据我们实际加工的阅历,在使用频率为1GHZ以下的其Er认为4.2左右1.5—2.0GHZ的使用频率其仍有下降的空间。故设计时如有阻抗的要求则须考虑该产品的当时的使用频率。我们在长期的加工和研发的过程中针对不同的厂商已经摸索出肯定的规律和计算公式。7628----4.5〔全部为1GHz状态下)2116----4.21080----3.6在不同的层间构造和排列时,其具体的变化是不同的如7628+2116时Er是多少,并不是简洁的算术平均数。各种构造的排列在Microstrip&Stripline时所表现出的Er也是不同的。FR-4的材料其本身就存在着这种,随频率的变化其Er也变化的特性,因此一般状况下,大于2GHZ的使用频率,同时对阻抗又有很高要求的PCB建议使用其它材料。如BT、CE、PTFE…...Er比较稳定的材料。同时我认为在目前传输类产品上改进的LOWDK材料还是能满足性能要求的,包括宽带产品。目前国内的厂家也在加紧这方面的争论,但目前至少不是很成熟。国外比较成熟如日本HITACHI、美国的BI……等,但本钱压力较大。通信产品目前集成化的趋势也比较明显,在PCB上就表达出高层数,而为保证信号线的阻抗匹配,相应的介质也上来了,板也越来越厚。如24层的背板6mm厚甚至更厚。〔已有客户想在年内突破30层8mm〕为有效的掌握板厚低Er的材料也孕育而生,且进入比较成熟的阶段。LowDk&HighTg的材料Er在3.5—3.8Tg160—180有效的掌握板厚和Z方向上的膨胀。我们目前已经和局部客户对HITACHI的LOWDK材料进展了认证,为进一步的批量加工做更充分的预备。目前大规模推广的瓶颈为材料本钱的压力。PCB板材介电常数

介电常数

空 1.0

玻璃纤维(GLASS) 6.5

环氧树脂(Epoxy) 3.5 FR4 4.4~5.2

聚四氟乙烯(PTFE) 2.1 PTFE/Glass 2.2~2.6

聚氰酸树脂(C.E.) 3.0 C.E./Glass 3.2~3.6 C.E./Quartz 2.8~3.4

聚亚硫胺(Polyimide) 3.2 Polyimide/Glass 4.0~4.6 Polyimide/Quartz 3.5~3.8 BismaleimideTriazine(BT)3.3 BT/Glass4.0 Alumina 9.0

石英(Quartz) 3.9 以上数据是在1MHz的条件下测得的H〔介质层厚度〕该因素对阻抗掌握的影响最大故设计中如对阻抗的宽容度很小的话,则该局部的设计应力求准确,FR-4的H的组成是由各种半固化片组合而成的〔包括内层芯板〕,一般状况下常用的半固化片为:1080厚度0.075MM、7628厚度0.175MM、2116厚度0.105MM。…...在多层PCB中H一般有两类:A内层芯板中H的厚度:虽然材料供给商所供给的板材中H的厚度也是由以上三种半固化片组合而成,但其在组合的过程中必定会考虑三种材料的特性,而绝非无条件的任意组合,因此板材的厚度就有了肯定的规定,形成了一个相应的清单,同时H也有了肯定的限制。如0.17mm1/1的芯板为2116*1如0.4mm1/1的芯板为1080*2+7628*1……B多层板中压合局部的H的厚度:其方法根本上与A一样但需留意铜层的损失。举例:如GROUND~GROUND或POWER~POWER之间用半固化片进展填充,因GROUND、POWER在制作内层的过程中铜箔被蚀刻掉的局部很少,则半固化片中树脂对该区的填充会很少,则半固化片的厚度损失会很少。反之如SIGNAL~SIGNAL之间用半固化片进展填充SIGNAL在制作内层的过程中铜箔被蚀刻掉的局部较多,则半固化片的厚度损失会很大。因此理论上的计算厚度与实际操作过程所形成的实际厚度会有差异。故建议设计时对该因素应予以充分的考虑。同时我们在客户资料审核的岗位也有专人对此通过软件进展计算和校对。W〔设计线宽〕该因素一般状况下是由客户打算的。但在设计时请充分考虑线宽对该阻抗值的协作性,即为到达该阻抗值在肯定的H、Er和使用频率等条件下线宽的使用是有肯定的限制的。固然阻抗掌握不仅仅是上述几因素,上面所提的只是比较而言影响度较大的几因素,也是从PCB的制造厂商的角度来对待该问题的。以下是我们在高多层PCB实际生产加工过程中,总结出来的一些高多层PCB的构造例如,但必需说明的是:这仅仅是一点,缺乏以说明一面的问题,仅仅是建设性的参考。由于时间和篇幅的限制在此处没能将一些目前已经成为趋势的做法列出如内层使用H/H〔半Oz〕铜箔、LowDK材料……其中的一些数值是比较粗略的计算结果,实际运用时还需依据实际的状况进展细化。考虑到客户的需求根本上还是——高多层能薄一点,因此在高层的构造中我们尽可能的举厚度比较适中的构造。20层以上由于构造更加简单,同时是客户与我们共同努力的结果,因此在实际加工的过程中,依据客户的具体要求再做具体的探讨。如24层6mm、30层6--8mm…...2.0mm8层板的通常配置1080+76281080+76281080+7628

1080+7628其阻抗值一般为两种状况:MicrostripLine=8milZo=70左右OffsetStripline有两种可能1.Line=8milZo=45左右2.Line=8milZo=50左右3.如为背板的设计则还有另一种状况针对不同的需要可以对左示的构造进展更改而得。0.31/10.31/10.31/13.0mm8层板的通常配置1080+7628*27628*27628*2

1080+7628*2其阻抗值一般为两种状况:MicrostripLine=8milZo=80左右OffsetStripline有两种可能1.Line=8milZo=58左右2.Line=8milZo=68左右3.如为背板的设计则还有另一种状况针对不同的需要可以对左示的构造进展更改而得。0.51/10.51/10.51/12.0mm10层板的通常配置1080+76287628+10801080*2

7658+1080

1080+7628其阻抗值一般为以下几种状况:MicrostripLine=8milZo=70左右OffsetStripline有两种可能1.Line=8milZo=33左右2.Line=8milZo=47左右3.如为背板的设计已经调整内部地电的排列还有其他的一些状况消失。针对StriplineZo偏小的状况一般是压缩Microstrip的介质厚度来增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求针对不同的需要可以对左示的构造进展更改而得。0.21/10.21/10.21/10.21/12.0mm12层板的通常配置1080*2

1080*21080*21080*2

1080*2

1080*2其阻抗值一般为以下几种状况:MicrostripLine=8milZo=50左右OffsetStripline有两种可能1.Line=8milZo=30左右2.Line=8milZo=33左右3.如为背板的设计以及调整内部地电的排列还有其他的一些状况消失。针对StriplineZo偏小的状况一般是增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求,通常50ohm的需求该种板会在3.0mm厚度。针对不同的需要可以对左示的构造进展更改而得。0.21/10.21/10.21/10.21/10.21/13.0mm14层板的通常配置1080+7628

1080+76281080+76281080+7628

1080+7628

1080+76281080+7628其阻抗值一般为以下几种状况:MicrostripLine=8milZo=70左右OffsetStripline有两种可能1.Line=8milZo=33左右2.Line=8milZo=40左右3.如调整内部地电的排列还有其他的一些状况消失。针对StriplineZo偏小的状况一般是缩小Microstrip的介质厚度,同时缩小地地或电电之间的介质厚度来增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求,包括承受不同厚度芯板进展压合的方法。针对不同的需要可以对左示的构造进展更改而得。0.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/116层3.0mm的构造。1080+21161080+21162116*22116*22116*22116*21080+21161080+2116其阻抗值一般为以下几种状况:MicrostripLine=8milZo=60左右OffsetStripline有几种可能当Line=8mil时Zo值在33--50…...如调整内部地电的排列还有其他的一些状况消失。针对StriplineZo偏小的状况一般Backboard设计Top&Bom层是无Microstrip要求,因此调整它们的介质厚度,调整地地或电电之间的介质厚度来增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求,包括承受不同厚度芯板进展压合的方法。针对不同的需要可以对左示的构造进展更改。0.2`1/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/118层3.0mm厚度的构造.各层之间的半固化片全部使用1080*2从今种构造的特性上来看MicrostripLine=8milZo=50左右比较符合常规要求,但OffsetStripline则可能太小。针对StriplineZo偏小的状况,一般Backboard设计Top&Bom层是无Microstrip要求,因此调整它们的介质厚度,调整地地或电电之间的介质厚度来增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求。包括承受不同厚度芯板进展压合的方法通过局部的调整来满足要求。针对不同的需要可以对左示的构造进展更改。0.2`1/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/118层3.8mm厚度的构造.1080+76282116*2

1080+7628从今种构造的特性上来看MicrostripLine=8milZo=70左右,比一般常规的要求偏大,但OffsetStripline则可能偏小。针对StriplineZo偏小的状况,一般Backboard设计Top&Bom层是无Microstrip要求,因此调整它们的介质厚度,调整地地或电电之间的介质厚度来增加Stripline的介质厚度满足Zo的需求。包括承受不同厚度芯板进展压合的方法通过局部的调整来满足要求。针对不同的需要可以对左示的构造进展更改。0.2`1/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/1mm厚度的构造.各层之间的半固化片全部使用1080*2此种构造阻抗的状况和调整方法与18层3.0mm的状况根本一样,主要的问题是Stripline偏小。0.2`1/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/10.21/120层4.0mm左右厚度的构造.标注的地方为1080+2116,其余的构造为1080+7628从今种构造的特性上来看,一般状况是属于backboard的设计因此Microstrip就没了,OffsetStripline的Zo=33--50〔照旧设计的层次排列〕如想得到50则在设计上肯定要处理好一些问题,且并非每个信号层都能掌握到。针对不同的需要可以对左示的构造进展更

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