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CMOS集成电路版图基础定义版图什么是版图?集成电路制造工艺中,通过光刻和刻蚀将掩膜版上的图形转移到硅片上。这种制造集成电路时使用的掩膜版上的几何图形定义为集成电路的版图。版图要求与对应电路严格匹配,具有完全相同的器件、端口、连线图形关系栅有源区注入杂质形成晶体管,栅与有源区重叠有源区的区域确定器件尺寸,导电沟道称为导电沟道只要源极、漏极以及导电沟道所覆盖的区域称为有源区。芯片中有源区以外的区域定义为场区2、器件尺寸设计MOS管中电流由源极流向漏极。沟道宽度沟道中电流流过W的距离为沟道长度;截面尺寸为沟道宽度沟道长度电流方向设计中,常以宽度和长度值的比例式即宽长比(WL)表示器件尺寸。例:假设一MOS管,尺寸参数为20/5。则在版图上应如何标注其尺寸。20/53、图形绘制s|-13883Date:9Jan20064090140冒冒冒uulumRBEHT=5.00KV英特尔65纳米双核处理器的扫描电镜(SEM)截面图常用图层版图图层名称含义NwellN阱Active有源扩散区SelectP型注入掩膜NselectN型注入掩膜Poly多晶硅引线孔Meta

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