光敏高分子材料详解演示文稿

光敏高分子材料详解演示文稿目前一页\总数八十三页\编于十二点优选光敏高分子材料目前二页\总数八十三页\编于十二点第六章第一节光敏高分子材料概述光敏高分子材料也称为光功能高分子材料定义∶在光的参与作用下能够表现出某些特殊物理或化学性能的高分子材料化学变化：光聚合、光交联、光降解物理变化：互变异构（颜色改变）、激发（导电等性能改变）、发光、外观尺寸的变化等。目前三页\总数八十三页\编于十二点

◆

如果吸光后发生化学变化，导致光聚合、光交联、光降解反应，高分子材料的溶解性发生变化，可制备什么？

第六章第一节光敏高分子材料概述◆如果发生互变异构反应，引起材料吸收波长的变化。可制备？光敏涂料?光致刻蚀剂?光致变色材料目前四页\总数八十三页\编于十二点◆如果发生材料外观尺寸的变化，则形成光力学变化材料。第六章第一节光敏高分子材料概述◆如果发生物理变化，可形成荧光性能材料等其它功能材料。目前五页\总数八十三页\编于十二点与高分子光敏材料有关的光化学反应有光交联（聚合）反应、光降解反应和光异构化反应。这些反应都可以使分子吸收光能后发生能量转移，产生化学反应。第六章第一节光敏高分子材料概述一、高分子光化学反应类型光交联反应—生成的聚合物分子量更大，溶解性降低。光降解反应—分子量减小，溶解度上升。光异构化反应—分子量不变，结构改变，吸光性能发生改变。目前六页\总数八十三页\编于十二点当聚合物在光照下，通过光化学反应聚合或交联，迅速固化，从而达到保护或美化材料表面的一种涂料。第六章第一节光敏高分子材料概述二、光敏高分子的分类1、高分子光敏涂料：2、高分子光刻胶：通过光化学反应（光交联或光降解）改变聚合物，增加光加工性来制成某一些特殊元件的一类高分子。多用于集成电路工业。3、高分子光稳定剂：通过吸收大量的光能，使保护高分子或其它材料在光的作用下发生质变的一类高分子。目前七页\总数八十三页\编于十二点4、高分子荧光或夜光材料：光照下，吸收光能以荧光或磷光的形式发出的高分子材料。5、高分子光催化剂：吸收光能后能，把光能转变为化学能的装置，称为光能转换装置，其中本身不直接进行光能转换，但能够促进其它物质转换作用的高分子称为高分子光催化剂。6、光能转换聚合物：吸收太阳能，并把太阳能转变为热能，电能或化学能等的一类高分子。第六章第一节光敏高分子材料概述二、光敏高分子的分类目前八页\总数八十三页\编于十二点7、光导电聚合物：光照的前提下，外加电压时，导电性能显著变化的高分子化合物。8、光致变色高分子材料：9、高分子非线性光学材料：10、高分子光力学材料：第六章第一节光敏高分子材料概述二、

光敏高分子的分类目前九页\总数八十三页\编于十二点光敏高分子的定义？第一节光敏高分子材料概述小结高分子光化学反应类型？光交联、光降解、光异构化反应光敏高分子的分类？1、高分子光敏涂料：2、高分子光刻胶:3、高分子光稳定剂：4、高分子荧光或夜光材料：5、高分子光催化剂：6、光能转换聚合物：7、光导电聚合物：8、光致变色高分子材料：9、高分子非线性光学材料：10、高分子光力学材料：目前十页\总数八十三页\编于十二点特点：与普通涂料比较，因为不用大量溶剂挥发，避免环境污染。固化时间短，涂层在粉刷后进行交联等光化学反应，则可以得到交联度高，机械强度大的涂层。

光敏涂料添加剂：交联剂，稀释剂，光敏剂或光引发剂，阻聚集和调色剂等。分子量要求一般为1000—5000。是低聚合物。第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前十一页\总数八十三页\编于十二点水性聚氨酯防水涂料(WPU)产品无毒无味，具有良好的粘结和不透水性，对砂浆水泥基石面和石材，金属制品都有很强的粘附力，产品的化学性质稳定，能长期经受日光的照射，强度高，延伸率大，弹性好，防水效果好。产品名称：法斯特外墙乳胶漆

产品基料：丙稀酸酯共聚乳液和进口颜填料及助剂等优质材料。

适用范围：适用于水泥、砖石、混凝土建筑外墙表面的饰。

外墙乳胶漆目前十二页\总数八十三页\编于十二点目前光敏涂料除多用于建筑材料（包括木材），金属材料等的涂料外，还用于液晶显示器以及电子元件的封装等等。1。环氧树脂性低聚物第二节光敏涂料和光敏胶第六章一、光敏涂料的结构类型目前十三页\总数八十三页\编于十二点2。不饱和聚酯聚酯型光敏高分子涂料具有坚韧，硬度高和耐溶剂性好等特点。目前十四页\总数八十三页\编于十二点具有粘接力强，耐磨等特点。但是，紫外光的作用下颜色发生变化（变黄）。一般用含羟基的丙烯酸（或甲基丙烯酸）与多元异氰酸酯反应得到预聚合体。3。聚氨酯：第二节第六章一.光敏涂料的结构类型目前十五页\总数八十三页\编于十二点是一种低粘度涂料。价格低。合成一般环氧化合物和多元醇缩聚而成。如：4。聚醚：第二节第六章一.光敏涂料的结构类型目前十六页\总数八十三页\编于十二点按性能分类，可分为正胶和负胶。正胶：经过光照后溶解性增大。负胶：经过光照后溶解性降低。二、光致抗蚀剂或光刻胶第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前十七页\总数八十三页\编于十二点主要用途：在集成电路制造中，半导体氧化层中许多地方要除去，部分地方要留下。一般采用化学腐蚀法。这样根据事先设计好的图按，利用适当的光敏高分子胶可以保护或破坏被涂半导体层进行化学腐蚀，可以达到保留或除去的目的。这种技术目前在电子工业中起着重要的作用。二、光致抗蚀剂或光刻胶第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前十八页\总数八十三页\编于十二点光刻胶的作用原理如下：涂胶氧化层基层正胶负胶暴光坚膜显影刻蚀剥胶第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前十九页\总数八十三页\编于十二点1.常用的负性抗蚀剂（光刻胶）（聚乙烯醇肉桂酸酯）第二节光敏涂料和光敏胶第六章

目前二十页\总数八十三页\编于十二点

除以上的聚合物以外，还有聚乙烯氧肉桂酸乙酯，聚对亚苯基二丙烯酸酯，聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯等等。除均聚化合物外，还有共聚光刻胶，如：二乙烯苯，N,N-亚甲基双丙烯酰胺，双丙烯酸乙二醇酯和安息香酶酯等配制二成的负性光刻胶等。第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十一页\总数八十三页\编于十二点2.正性抗蚀剂（光刻胶）

该类胶的最大优点是水溶液可代替有机溶剂作为显影剂，安全性以及经济角度来考虑具有优势。但是，该类化合物对光分解后的显影工艺要求较高。光照后溶解性变化不如负性胶。

第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十二页\总数八十三页\编于十二点2.正性抗蚀剂（光刻胶）

第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十三页\总数八十三页\编于十二点

早期应用的正胶为：连接有邻重氮萘醌结构的线形酚醛树脂。认为感光后侧链上的邻重氮萘醌脱落，生成在碱性溶液中可溶的黄酸基化合物。近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化。第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十四页\总数八十三页\编于十二点近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化聚甲基丙烯酸甲酯波长范200~240nm。甲基丙烯酸甲酯-茚酮共聚物，波长230~300nm。第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十五页\总数八十三页\编于十二点甲基丙烯酸甲酯-对甲氧苯基异丙基酮共聚物，波长范围220~360nm。

聚甲基异丙烯酮波长范围230~320nm。第二节光敏涂料和光敏胶第六章目前二十六页\总数八十三页\编于十二点因为紫外光扩散时，有光的绕射，则一般使用波长在350~450nm的光源，只能加工成线宽为1微米的集成电路。为了得到微米以下线宽的集成电路，最近使用能量更高的辐射源，如：电子和X-射线等。由于它们能量高，高分子中不需要有发色团也能够较稳定的化学键断裂，得到更显著的溶解性差别，并且能够得到准确度更高的集成电路刻线。第二节光敏涂料和光敏胶第六章现在的发展趋势目前二十七页\总数八十三页\编于十二点第二节小结高分子光敏涂料的特点?一、光敏涂料的结构类型？1、环氧树脂性低聚物2、不饱和聚酯3、聚氨酯：4、聚醚：二、光致抗蚀剂或光刻胶1、光刻胶胶的用途和应用原理?2、光刻胶的类型?目前二十八页\总数八十三页\编于十二点

第三节高分子光稳定剂高分子的老化：高分子材料在加工，储存和使用过程中在光，热，氧，水分和其它化学物质的作用下变质，严重时失去应用价值。这种现象称为老化。若影响因素是以光为主，则称为光老化。阳光引起的高分子老化反应主要是：光降解光氧化和光交联

第六章目前二十九页\总数八十三页\编于十二点光降解：在光的作用下，高分子键活化，断裂。导致分子的机械性能下降，溶解性增大。光氧化及光交联：光的作用下产生自由基，进而在氧的作用下产生氧参与的化学反应，在高分子链上引入羧基，羰基，过氧化基以及和不饱和键等，改变高分子化学成分来影响高分子各类物理及化学性能。条件具备的情况下，自由基进一步反应，生成交联化合物。第三节高分子光稳定剂第六章目前三十页\总数八十三页\编于十二点高分子材料的光化学老化比较复杂，影响因素也较多，下面只讨论较典型一些光化学老化过程以及一些光化学稳定剂。第三节高分子光稳定剂第六章目前三十一页\总数八十三页\编于十二点太阳光是影响光老化的主要因素，太阳光经大气层滤过到地面的波长范围为290-3000nm之间。太阳光主要包含光线组成为：紫外光10%，可见光50%，红外光40%。其中紫外光虽然占的比列不大，但是能量较高，则对高分子老化影响最大。可见光对光降解反应的影响较小，红外光虽然能量较低，但是高分子吸收红外光后温度提高，促使光降解反应。

第三节高分子光稳定剂第六章1.光的波长，光吸收度和光量子效率的影响。一、光降解光氧化过程目前三十二页\总数八十三页\编于十二点影响光降解反应的主要因素处波长外，还有吸光度与激发态分子的能量转化过程也有较大的影响。一般光降解程度由光降解量子数（ф）表示：

ф=光降解分子数吸光分子数

第三节高分子光稳定剂第六章1.光的波长，光吸收度和光量子效率的影响。一、光降解光氧化过程目前三十三页\总数八十三页\编于十二点常见的一些高分子的光老化波长和光降解量子数。聚合物光敏区（nm）Ф（254nm）聚合物光敏区（nm）ф（254nm）聚四氟乙烯<200<10-5纤维素<250~10-3聚乙烯<200<4x10-2聚甲基丙烯酸甲酯2142x10-4聚丙烯<200~10-1聚己内酰胺6x10-4聚氯乙烯<200~10-4聚苯乙烯260，210~10-3乙酸纤维素<250~10-3聚碳酸酯260~2x

10-41.光的波长，光吸收度和光量子效率的影响。目前三十四页\总数八十三页\编于十二点2、聚合物光老化过程的引发机理参与光老化过程的化学反应有：高聚物

hn产生自由基离子化环合分子内重排键断裂

第三节第六章一、光降解光氧化过程目前三十五页\总数八十三页\编于十二点

其中自由基发生光氧化反应，进一步产生新的发色团，发色团增多，对光的吸收也响应的增多，这样进一步促使光老化过程。此外，聚合物中具有光敏性物质，光敏降解反应成为光老化的主要因素。

2、聚合物光老化过程的引发机理

第三节第六章一、光降解光氧化过程目前三十六页\总数八十三页\编于十二点常见的光敏性物质为：二苯甲酮，对苯醌，苯并蒽醌醇，甲基蒽醌等等。光化学反应的结果是聚合物成分改变。大部分情况下分子量降低，溶解性加大，机械性能下降，失去使用价值。2、聚合物光老化过程的引发机理

第三节第六章一、光降解光氧化过程目前三十七页\总数八十三页\编于十二点光稳定剂应根据聚合物中发生的具体光化学反应来选择。

第三节高分子光稳定剂第六章二、光稳定剂及作用机理加入到聚合物物后，能够提高聚合物对光的耐受能力，增强抗光老化能力的一类物质，称为聚合物光稳定剂。目前三十八页\总数八十三页\编于十二点主要有以下两种基本措施：1）对有害光线进行屏蔽或吸收后，光能转变成无害方式，阻止自由基产生。2）彻段光老化链式反应的进行路线，使其聚合物主链不产生断裂。

第三节高分子光稳定剂第六章二、光稳定剂及作用机理目前三十九页\总数八十三页\编于十二点

总结以上的稳定化机理，聚合物光稳定剂可以分为以下四种：光屏蔽剂，激发态猝灭剂，过氧化物分解剂，抗氧化剂。聚合物表面涂保护层也是一种防止老化的方法，但是涂层与高分子的适应性以及成本等方面不具备太大优势。三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节高分子光稳定剂第六章目前四十页\总数八十三页\编于十二点1、光屏蔽剂分为光屏蔽添加剂和紫外光吸收剂两种。前者是对各类波长的光有吸收，并且不影响聚合物状态的前提下把吸收的能量耗散。如：碳黑分散到聚合物中，在聚合物表面的碳黑不但大量吸收光线，而且对产生的自由剂有捕获作用，但是改变聚合物的颜色透明度以及光泽。紫外光吸收剂仅对高分子老化影响较大的紫外光有吸收，不影响高聚物的颜色和光泽。特别使用于无色或浅色聚合物材料。三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章目前四十一页\总数八十三页\编于十二点

主要的紫外光吸收剂是具有形成分子内氢键的酚羟基或具有光重排能力的化合物。吸收的光能转变成分子异构体的转变能。

紫外光吸收剂的光致互变异构机理三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章1、光屏蔽剂目前四十二页\总数八十三页\编于十二点对聚合物光屏蔽剂的一般要求：1）应有足够大的消光吸数，保证添加量不太大的情况下，对有害光有较大的屏蔽效应。2）能无害的耗散所吸收的光能，自身和聚合物不受损害，特别是耗散的能量对聚合物没有敏化作用。三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章1、光屏蔽剂目前四十三页\总数八十三页\编于十二点激发态猝灭剂的作用原理：

聚合物吸收光能后，通过多种方式耗散能量，在这过程中猝灭剂以吸收聚合物分子辐射的能量或以碰撞方式接受激发态聚合物的能量，而后以无害的形式耗散能量，阻止聚合物的继续光降解。常用的激发态猝灭剂是过度金属配合物。三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章2、激发态猝灭剂目前四十四页\总数八十三页\编于十二点三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章3、抗氧剂

能阻止热氧化反应的抗氧剂同样可以作为聚合物的抗光氧化剂。但是两者的反应机理是否相同还有待于研究，因为其抗氧特征不相同。目前四十五页\总数八十三页\编于十二点三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章4、聚合物型光稳定剂

各种光稳定剂与聚合物之间的相溶性问题和光稳定剂在长期使用期间自身损耗问题是阻碍选择光稳定剂的难点之一，这些损耗可能是在加工和使用期间的热挥发、或长时间使用过程中稳定剂迁移至聚合物表面而渗出。

目前四十六页\总数八十三页\编于十二点三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章4、聚合物型光稳定剂为了解决这些问题，可选用下面两种方法：（1）将长脂肪链接在光稳定剂上，从而改进与聚合物的相溶性，同时常脂肪链的“锚”作用可以降低光稳定剂在聚合物中的扩散过程。2，2´-二羟基-4-十二烷氧基二苯甲酮目前四十七页\总数八十三页\编于十二点三、高分子光稳定剂的种类与应用

第三节

第六章4、聚合物型光稳定剂（2）将光稳定剂直接接枝到高分子骨架上。例如：2-羟基二苯甲酮以化学方法键合在ABS类高分子骨架上，可以使ABS塑料具有光稳定作用。目前四十八页\总数八十三页\编于十二点第四节光致变色聚合物

前述光敏高分子主要涉及的是聚合物的光聚合和光降解。所谓的光致变色聚合物是在光的作用下能发生可逆性颜色变化的聚合物。

光致变色材料广泛应用于护目镜，调节光线的玻璃，建筑装饰材料等等。

第六章目前四十九页\总数八十三页\编于十二点以色列顶级防晒膜帮到您具有5大功能：

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目前应用的光致变色聚合物制备有两种方法，一是聚合物和具有光致变色功能的其它材料共混。另一种为光致变色基团导入聚合物侧链或主链上。光致变色材料一般分为两种： 由无色或浅色变成深色——正性光致变色。

由深色变成无色或浅色——逆性光致变色。第四节光致变色聚合物

第六章目前五十一页\总数八十三页\编于十二点常见光致变色聚合物和它们的合成方法一、含硫卡巴腙（Thiocarbozane）络合物的光致变色聚合物。

卡巴腙与汞的络合物是一种显色剂，化合物在光照下结构发生变化。

第四节光致变色聚合物第六章目前五十二页\总数八十三页\编于十二点有代表性的卡巴腙汞络合物高分子化方法：聚丙烯酸型卡巴腙高分子络合物

第四节光致变色聚合物第六章一、含硫卡巴腙络合物的光致变色聚合物。目前五十三页\总数八十三页\编于十二点二、含偶氮苯的光致变色聚合物光致变色机理：

第四节光致变色聚合物

第六章

目前五十四页\总数八十三页\编于十二点

聚偶氮苯本身因为具有共轭倾向，则在一般溶剂中难溶。虽然有光致变色性能，但是加工性差。为此一般采取以下方法合成具有光致变色性能，又有较好加工性的化合物。二、含偶氮苯的光致变色聚合物

第四节光致变色聚合物

第六章

目前五十五页\总数八十三页\编于十二点偶氮型光致变色聚合物光学参数二、含偶氮苯的光致变色聚合物

第四节

第六章

目前五十六页\总数八十三页\编于十二点三、含螺苯并吡喃结构的光致变色聚合物

含螺苯并吡喃结构的化合物是一种在紫外光的作用下发生可逆开环异构的光电变色材料。结构变化为：

X=—C(CH3)2orS;R1=HorMe。

第四节光致变色聚合物

第六章

目前五十七页\总数八十三页\编于十二点

该化合物在可见光照射或热作用下重新环化，可以恢复原来的结构。

常见含螺苯并吡喃结构的光变色聚合物有：1。螺苯并吡喃甲基丙烯酸酯，或螺苯并吡喃甲基丙烯酸酰胺与甲基丙烯酸甲酯共聚产物。2。螺苯并吡喃结构的聚肽衍生物。3。主链上含有螺苯并吡喃结构的共聚化合物。侧链型三、含螺苯并吡喃结构的光致变色聚合物

第四节光致变色聚合物

第六章

目前五十八页\总数八十三页\编于十二点主链型聚合物主要是利用带两个羟基的螺苯并吡喃衍生物与相应的其它单体共聚而成。三、含螺苯并吡喃结构的光致变色聚合物

第四节光致变色聚合物

第六章

目前五十九页\总数八十三页\编于十二点四、氧化还原性光致变色聚合物

第四节光致变色聚合物

第六章

目前六十页\总数八十三页\编于十二点四、氧化还原性光致变色聚合物

第四节光致变色聚合物

第六章

目前六十一页\总数八十三页\编于十二点第四节小结1.光致变色材料一般分为两种： 由无色或浅色变成深色——正性光致变色。由深色变成无色或浅色——逆性光致变色。2、常见光致变色聚合物一、含硫卡巴腙（Thiocarbozane）络合物的光致变色聚合物。二、含偶氮苯的光致变色聚合物三、含螺苯并吡喃结构的光致变色聚合物四、氧化还原性光致变色聚合物目前六十二页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章定义：在无光照射时绝缘体，而在光的作用下其电导值可以增加几个数量级而变为导体的高分子材料称之为光导电高分子材料。这种光控导体在实际应用中有着非常重要的意义。光导电材料无机光导电材料：硒、氧化锌、硫化镉、砷化硒、非晶体硅等。有机光电材料:高分子光电材料小分子光电材料：如蒽及其电荷转移络合物目前六十三页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章有机光导电材料线性共轭高分子材料带有共轭结构的小分子材料电子给体与受体组合构成的电荷转移复合物目前六十四页\总数八十三页\编于十二点导电率（）=Il/AE=nem

I-电流强度;l–材料长度;A-材料面积;E-电场强度;n-单位体积中载流子密度;e-电子电荷;m-载流子的迁移率;其中载流子可以是电子，孔穴，离子。光导电聚合物中，主要是电子和孔穴。

第五节光导电高分子材料

第六章一、光导电机理与结构的关系1.光导电性的测定与影响因素材料的导电性能一般用导电率表示。定义是单位电场强度下测出的电流强度：目前六十五页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系1.光导电性的测定与影响因素光导电率主要与载流子的密度，迁移率有关。载流子的迁移率m=d2/Vt

（d-材料厚度，电压，漂移时间）一般以感度（G）来衡量高分子光导电性能。Ip—产生的光电流；I0—入射光强度；T—透过率，A-光照面积。目前六十六页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系2.光导电机理光导电的基础是在光激发下材料内部的载流子密度能够迅速增加，从而导致电导率增加。在理想状态下，光材料吸收一个光子后跃迁到激发态，从而产生能量转移过程，生成一个载流子，在电场的作用下载流子移动产生光电流。目前六十七页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系2.光导电机理

对于分子型光电材料，形成光导载流子的过程有以下两步：（1）分子中的基态电子在光的作用下激发，然后一部分激发态电子通过耗散回到基态；另一部分发生离子化，形成所谓电子-空穴对。后者对光导电过程作贡献。（2）在外加电场的作用下电子-空穴对发生解理，解理后的空穴或电子作为载流子可以沿电场力作用方向移动产生光电流。目前六十八页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系2.光导电机理

形成电子-空穴对过程与外加电场强弱无关，所以电子-空穴对的数量只与吸收的光量子数和光的激发效率有关。电子-空穴对解离的比率也称为感度（G）。目前六十九页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系2.光导电机理

要提高光电导体的性能必须注意以下几个条件。

（1）在光照条件一定是，光激发率越高，产生的激发态分子越多，产生电子-空穴队的数目就越多，有利于提高光电流。增加光敏结构密度和选择光敏化效率高的材料有利于提高光激发效率。分子对入射光的平率要匹配。目前七十页\总数八十三页\编于十二点

第五节

第六章一、光导电机理与结构的关系2.光导电机理（2）降低辐射和非辐射耗散效率，提高离子化效率，有利于电子-空穴对的解理。（3）增加电场强度，使载流子迁移速度加快，可以降低电子-空穴对重新复合的几率，有利于提高光流子。目前七十一页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章二、光导聚合物的结构类型

物质能够在光作用下改变电导性质必须以其特定的化学结构作为基础。从结构上划分，一般认为有三种类型的聚合物具有光导性质：①高分子主链中有较高程度的共轭结构。②高分子侧链上大的共轭结构，连接多环芳烃。③高分子侧链上连接各种芳香胺或者含氮杂环，其中最重要的是咔唑基，空穴是主要载流子。目前七十二页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章二、光导聚合物的结构类型

1.线性共轭高分子光导电材料

线性共轭导电高分子材料在可见光区有较强的光吸收系数，吸收光能后在分子内产生孤子、极化子和双极化子作为载流子，因此导电能力大大增加，表现出很强的光导电性能。这类线性共轭高分子作为电子受体，做光电材料时需要在体系内提供电子受体。

目前七十三页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章二、光导聚合物的结构类型

2.侧链带有大共轭结构的光导电材料

带有大的芳香共轭结构的化合物一般都表现出较强的光导性质，将这类共轭分子连接到高分子骨架上则构成光导高分子材料。由于绝大多数多环芳烃和杂芳烃都有较高的摩尔吸光系数和量子效率，一次可选原料非常多。

目前七十四页\总数八十三页\编于十二点

第五节光导电高分子材料

第六章二、光导聚合物的结构类型

3.侧链连接芳香胺或者含氮杂环的光导电材料

含有咔唑结构的聚合物可以是由带有咔唑基的单体均聚而成，也可以是由带有咔唑基的单体与其它单体共聚生成，特别是与带有光敏化结构的共聚物更有特殊的意义。具有这类结构的光导聚合物中，咔唑基与光敏化结构之间是通过饱和碳链相连接。聚乙烯基咔唑目前七十五页\总数八十三页\编于十二点配合物光导电材料

酞菁铜(CuPc)是一种重要的有机半导体和光导电体。由于其难以溶解，因此长期得不到实际