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
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文档简介
电容屏工作简单数学模型当手指或导体触摸到TP时,电容值Cp就会产生变化第一页,共24页。工作原理概括1.触摸TP,寄生电容产生变化2.发射极发射信号,经过容抗,阻抗后,信号产生滞后或超前,接收极接受信号后计算出具体数值,扫描整屏,产生数据矩阵3.和基准数据矩阵对比,产生DIFF值矩阵,使用重心算法映射到LCD分辨率,得出具体坐标值,赋予ID号4.产生中断,主控使用IIC读走数据第二页,共24页。电容触摸屏分类CTP(CapacityTouchPanel)表面电容式投射电容式
自电容:检测通道与地之间的寄生电容变化,有手指存在时寄生电容会增加,IC通道pin既是发射极又是接收极
互电容:检测发射通道和接受通道交叉处的互电容(也就是耦合电容)的变化,有手指存在时互电容会减小,IC通道pin发射极和接受极是分开的第三页,共24页。自电容触摸屏结构串行驱动/感应特点M+N个电容M+N条连线
模拟多点(2点)
第四页,共24页。互电容触摸屏结构串行驱动并行感应特点M*N个电容M+N条连线真实多点第五页,共24页。互电容VS自电容第六页,共24页。电容式触摸屏常见工艺结构G/FG/F/FG/F2GIFG/G(G/GS,G/GD)OGS(TOL)OnCellInCell第七页,共24页。G/F结构解析盖板/Lens/CoverGlass/CoverLens
作用:保护/功能/装饰
要求:强度/硬度/透光率OCA(固态光学胶,LOCA液态光学胶)
要求:透光率/粘性FilmSensor
特点:单层/单点+手势/或者单层多点,支持最大尺寸5寸第八页,共24页。G/G结构解析结构同于G/F,区别在于FilmSensor变为GlassSensor特殊的两种情况:
G/GD双面玻璃工艺(eg.:Apple)
G/GS单面搭桥工艺(MetalJump)第九页,共24页。电容式触摸屏堆叠结构比较CoverLensCoverLensCoverLensITOGlassITOFilm:RXITOFilm:TXITOGlassCoverLensITOFilm:RXCoverLensPETG/F/FG/FG/GDG/GSG2TPTypeG/F/FG/GSG/GDG/FG2Thickness1.1-1.3mm1.3-1.4mm1.3-1.4mm0.9-1.1mm>1.1mmTransmittance85%89%89%88%90.8%WeightLightHeaviestHeaviestLightestHeavyStrengthBestAverageAverageGoodGoodSensitivityGoodAverageGoodAverageAverageCostHighHighAverageLowLowCoverLensITOFilm:RXP/FITO铟锡氧化物
第十页,共24页。图形方案菱形+Cypress条形+Synaptics网形+Atmel
第十一页,共24页。自电容三角形三角形+Atmel第十二页,共24页。图形方案实物菱形长条形三角形第十三页,共24页。G/GS工艺通常使用搭桥工艺只需要一片ITO玻璃一面搭桥做ITO层另一面做屏蔽层主要用于小尺寸的屏艺少,成本、良率好控制第十四页,共24页。电容式触摸屏新工艺OGS/TOL(One
Glass
Solution/Touch
On
Lens)单层多点OnCell(触摸面板功能嵌入到彩色滤光片基板和偏光板之间)InCell(触摸面板功能嵌入到液晶像素中)第十五页,共24页。控制芯片厂家CypressSynaptics新思4层结构Atmel2层结构敦泰、汇顶、威盛、联发科瀚瑞、义隆电第十六页,共24页。控制芯片厂家LOGO第十七页,共24页。电容式触摸屏几种工艺制程的特点酸碱脱膜:效率高、成本低、精度低蚀刻膏蚀刻:与酸碱脱膜一样,效率高、成本低、精度低。工艺更简单,工艺图案与酸碱脱膜相反,难点是涂布不匀容易造成蚀刻不净,更难清洗等激光蚀刻:精度较高,30
μm,效率低,成本低,工艺简单,良率高,环保黄光工艺:精度最高,对位精度±5μm,蚀刻精度±5μm,能蚀刻5μm,一般量产用20μm第十八页,共24页。使用激光工艺时常见的工艺流程(GFF/酸碱+Laser)来料(卷材,较好的ITO基材有背保)开料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,将收缩率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保护膜)丝印耐酸(保护要留下的Sensor电路,没有背保的基材要印背保)酸刻Sensor电路碱洗耐酸水洗(洗掉化学残留)丝印银胶块(通常为了保护可视区不被划伤,印银胶前会印刷正保)烘烤(白格测试附着着力)激光干刻引线电路(通断检测)贴OCA光学胶(有的用液态胶)激光裁切让位孔(部分会在激光裁切是分层切出让位部分)Sensor上下线贴合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要检测无Lens是的功能)盖板贴合(CTP成型,触摸屏功能测试,出厂)第十九页,共24页。使用激光工艺时常见的工艺流程(GFF/Laser)来料(卷材,较好的ITO基材有背保)开料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,将收缩率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保护膜)丝印耐酸(保护要留下的Sensor电路,没有背保的基材要印背保)酸刻Sensor电路碱洗耐酸水洗(洗掉化学残留)丝印银胶块(通常为了保护可视区不被划伤,印银胶前会印刷正保)烘烤(白格测试附着着力)激光干刻引线电路(通断检测)
ITO+Ag蚀刻贴OCA光学胶(有的用液态胶)激光裁切让位孔(部分会在激光裁切是分层切出让位部分)Sensor上下线贴合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要检测无Lens是的功能)盖板贴合(CTP成型,触摸屏功能测试,出厂)第二十页,共24页。使用激光工艺时常见的工艺流程(GF/酸碱+Laser)来料(卷材,较好的ITO基材有背保)开料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,将收缩率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保护膜)丝印耐酸(保护要留下的Sensor电路,没有背保的基材要印背保)酸刻Sensor电路碱洗耐酸水洗(洗掉化学残留)丝印银胶块(通常为了保护可视区不被划伤,印银胶前会印刷正保)烘烤(白格测试附着着力)激光干刻引线电路(通断检测)贴OCA光学胶(有的用液态胶)激光裁切让位孔(部分会在激光裁切是分层切出让位部分)Sensor上下线贴合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要检测无Lens是的功能)盖板贴合(CTP成型,触摸屏功能测试,出厂)第二十一页,共24页。使用激光工艺时常见的工艺流程(GF/Laser)来料(卷材,较好的ITO基材有背保)开料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,将收缩率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保护膜)丝印耐酸(保护要留下的Sensor电路,没有背保的基材要印背保)酸刻Sensor电路碱洗耐酸水洗(洗掉化学残留)丝印银胶块(通常为了保护可视区不被划伤,印银胶前会印刷正保)烘烤(白格测试附着着力)激光干刻引线电路(通断检测)
ITO+Ag蚀刻贴OCA光学胶(有的用液态胶)激光裁切让位孔(部分会在激光裁切是分层切出让位部分)Sensor上下线贴合激光裁切(Sheet→Piece)邦定FPC(Bonding后需要检测无Lens是的功能)盖板贴合(CTP成型,触摸屏功能测试,出厂)第二十二页,共24页。使用激光工艺时常见的工艺流程(GF/单层多点)来料(卷材,较好的ITO基材有背保)开料(按需要的尺寸裁切成片材)老化(烘烤,将收缩率降到最低)撕膜(撕掉ITO面的保护膜)丝印耐酸(保护要留下的Sensor电路,没有背保的基材要印背保)酸刻Sensor电路碱洗耐酸水洗(洗掉化学残留)丝印银胶块(通常为了保护可视区不被划伤,印银胶前会印刷正保)烘烤(白格测试附着着力)激光干刻引线电路(通断检测)
ITOSensor蚀刻贴OCA光学胶(有的用液态胶)激光裁切让位孔(
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