PN-结的直流电流电压方程课件_第1页
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文档简介

PN

结外加电压时,可以分为三种情况:1)零偏

2)正偏

3)反偏2.2

PN

结的直流电流电压方程

P

区N

区PN结外加电压时,可以分为三种情况:2PN

结在正向电压下电流很大

,在反向电压下电流很小

,这说明

PN

结具有单向导电性,可作为二极管使用。

PN

结二极管的直流电流电压特性曲线,及二极管在电路中的符号为PN结在正向电压下电流很大,在反向电压

本节的重点

1、中性区与耗尽区边界处的少子浓度与外加电压的关系。这称为“结定律”,并将被用做求解扩散方程的边界条件。

2、PN

结两侧中性区内的

少子浓度分布

少子扩散电流

3、PN

结的

势垒区产生复合电流P

区N

区xn-xp本节的重点P区N区xn-xp

2.2.1

外加电压时载流子的运动情况

1

外加正向电压时载流子的运动情况2

外加反向电压时载流子的运动情况外加电压时,P区N区中性区内电场很小,所有电压降都落在PN

结区域P

区N

区NA-ND+NA-pp0ND+nn02.2.1外加电压时载流子的运动情况1外加正向电压时载面积为

Vbi

1、外加电压时载流子的运动情况

分析电场强度分布图的变化PNx0平衡时外加正向电压时外加电场内建电场面积为

Vbi-V外加正向电压

V后,PN结势垒高度由qVbi降为

q(Vbi-V),xd

与减小,使扩散电流大于漂移电流,形成正向电流。面积为Vbi1、外加电压时载流子的运动情况PNx0平衡时

势垒高度的降低不能再阻碍

N

区电子向

P

区的扩散及

P

区空穴向

N

区的扩散,于是形成正向电流。由于正向电流的电荷来源是多子,所以正向电流很大。势垒高度的降低不能再阻碍N区电子向PVP区N区0

正向电流密度由三部分组成:

1、空穴扩散电流密度

Jdp

(

N

区中推导

2、电子扩散电流密度

Jdn

(

P

区中推导

3、势垒区复合电流密度

Jr

(

在势垒区中推导

)VP区N区0正向电流密度由三部分组成:

2

外加反向电压时载流子的运动情况外加反向电压

V(V<0)后,PN

结的势垒高度由qVbi

增高到q(Vbi

+V)(V>0),xd

与都增大。PNx0

平衡时外加反向电压时外加电场内建电场面积为

Vbi

+V面积为

Vbi2外加反向电压时载流子的运动情况PNx0平衡

多子面临的势垒提高了,难以扩散到对方区域中去了,但少子面临的势阱反向更深了,所以更容易被反向电场拉入对方区域,从而形成反向电流。由于反向电流的电荷来源是少子,所以反向电流很小。多子面临的势垒提高了,难以扩散到对方区域中去VP区N区0

反向电流密度也由三部分组成:

1、空穴扩散电流密度

Jdp

2、电子扩散电流密度

Jdn

3、势垒区产生电流密度

Jg(Jg与

Jr

可统称为

Jgr

)

VP区N区0反向电流密度也由三部分组成:

例2计算施加反偏电压时,PN结中的电势差、空间电

荷区宽度、最大场强。已知:T=300K时,硅PN结的

掺杂浓度补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度补充题2:知:T=300K时,GaAs反偏PN结的最大电场为

确定产生这个最大电场的反偏电压的大小。例2计算施加反偏电压时,PN结中的电势差、空间电

例1由已知:零偏置硅PN结的T=300K,例1由已知:零偏置硅PN结的T=300K,

例2计算施加反偏电压时,PN结中的空间电荷区宽度。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度解:例2计算施加反偏电压时,PN结中的空间电荷区宽度。

结论假定PN结的掺杂浓度不变,外加电压时空间电荷区的参数变化与零偏时比较:

Vtotal宽度场强最大值正向电压Vbi-V小于xd小于EMAX不加电压Vbi

xdEMAX反向电压Vbi+V大于xd大于EMAX结论Vtotal宽度场强最大值正向电压Vbi-V小于第四次课内容2-2-2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布2-2-3扩散电流2-2-4势垒区产生复合电流2-2-5正向导通电压第四次课内容2-2-2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布

外加正向电压

V后,从而得:

2.2.2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布可知平衡时在

N

型区与耗尽区的边界处即

xn处的空穴浓度为

根据平衡

PN

结内建电势

Vbi的表达式外加正向电压V后,从而得:2.2.2势垒区两以上两式常被称为“结定律”.对正、反向电压均适用。但在正向时只适用于小注入。

因此,在

N

型区与耗尽区的边界处,即xn

处,

同理,在

P

型区与耗尽区的边界处,即

–xp

处,(2-44)(2-45)以上两式常被称为“结定律”.因此,在N型平衡状态下载流子浓度表达式少子浓度非平衡状态下势垒区两旁载流子浓度表达式说明:当

PN

结有外加电压

V

时,1.中性区与耗尽区边界处的少子浓度等于平衡时的少子浓度乘以

exp(qV/kT)。2.PN

结的P区、N

区内均存在过剩少数载流子。多子浓度多子浓度少子浓度平衡状态下载流子浓度表达式少子浓度非平衡状态下势垒区两旁载流

例3施加正向电压时,

求PN结空间电荷区边缘处少子 空穴浓度。已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度说明:当PN结有外加正向电压V时,中性区与耗尽区边界处的少子浓度可以增加几个数量级,但仍与多子浓度小得多,仍满足小注入。例3施加正向电压时,求PN结空间电荷区边缘处少子

2.2.3扩散电流

确定少子浓度的边界条件,少子浓度表达式中性区内非平衡少子浓度分布少子电流密度方程,即可得到少子扩散电流(

Jdp

Jdn

)思路2.2.3扩散电流思路

假设中性区的长度远大于少子扩散长度,则根据结定律可得

少子浓度的边界条件

也可用小注入浓度表示

非平衡少子边界条件1、少子浓度的边界条件

假设中性区的长度远大于少子扩散长度,则根据结定

外加正向电压且

V>>kT/q(室温下约为

26

mV

)时,非平衡少子的边界条件是

外加反向电压且|V|>>kT/q时,非平衡少子的边界条件是外加正向电压且V>>kT/q(室直流情况下,又因,故可得

由第一章的式(1-23,p5),N

区中的空穴扩散方程为式中,,称为空穴的

扩散长度,典型值为

10

m

。(1-23)

2、中性区内的非平衡少子浓度分布

直流情况下,又因P

区内的非平衡少子电子也有类似的分布,即

N

区足够长(>>Lp

)时,利用

pn(x)的边界条件可解出系数

A、B,于是可得

N

区内的非平衡少子空穴的分布为

扩散方程的通解为P区内的非平衡少子电子也有类似的分布,即2.外加正向电压时

PN

结中的少子分布图P区N区

注入

N

区后的非平衡空穴,在

N

区中

一边扩散一边复合,其浓度随距离作指数式衰减。衰减的特征长度就是空穴的扩散长度

Lp。每经过一个

Lp

的长度,非平衡空穴浓度降为

1/e

2.外加正向电压时PN结中的少子分布图P区P区N区

外加反向电压时

PN

结中的少子分布图

N

区中势垒区附近的少子空穴全部被势垒区中的强大电场拉向

P

区,

所以空穴浓度在势垒区边界处最低,随距离作指数式增加,在足够远处恢复为平衡少子浓度。减少的空穴由

N

区内部通过热激发产生并扩散过来补充。

P区N区外加反向电压时PN结中的少子分布图

假设中性区内无电场,所以可略去空穴电流密度方程中的漂移分量,将上面求得的

pn(x)

同理,P

区内的电子扩散电流密度为(2-52a)(2-52b)

3、扩散电流代入空穴扩散电流密度方程,得

N

区内的空穴扩散电流密度为假设中性区内无电场,所以可略去空穴电流密度方程PN

结总的扩散电流密度

Jd

结论:正向电压下,电流方向:根据假设条件,电子电流、空穴电流分别为连续函数,且为常量,扩散电流密度

Jd

也为连续函数、常量Jd称为理想二极管方程,描述PN

结电流电压特性PN结总的扩散电流密度Jd为结论:正当

V=0

时,Jd=0当

V>>kT/q时,当

V<0且

|V|>>kT/q时,Jd=-J0IVI00PN

结二极管电流电压特性当V=0时,Jd=0IVI00PN结二极管电流

室温下硅

PN

结的

J0值约为

10-10A/cm2的数量级。

由于当

V<0且

|V|>>kT/q后,反向电流达到饱和值

I0

,不再随反向电压而变化,因此称

I0为

反向饱和电流

。J0乘以

PN

结的结面积

A,得

4、反向饱和电流

室温下硅PN结的J0值约为10-10A/c

J0

的讨论

与材料种类的关系:EG↑,则ni↓,J0↓;

与掺杂浓度的关系:ND

、NA↑,则pn0、np0↓,J0↓,主要取决于低掺杂一侧的杂质浓度;

与温度

T的关系:T↑,则ni↑,J0↑,因此J0具有正温系数。这是影响

PN

结热稳定性的重要因素。对J0的讨论

2.2.4势垒区产生复合电流

由式(1-17),净复合率

U可表为

已知在中性区里,

1、势垒区中的净复合率

2.2.4势垒区产生复合电流由式(1-1由第

2.1

节已知,当外加电压

V

时,

在势垒区中,平衡时,

可见:

V=0

时,np=ni2

,U=0

,不发生净复合;当

V>0

时,np>ni2

,U>0,发生净复合;当

V<0

时,np<ni2

,U<0,发生净产生。由第2.1节已知,当外加电压V时,

为简化计算,可假设在势垒区中n与p

相等,且不随

x

而变化,即则为简化计算,可假设在势垒区中n与p相

V=0

时,Jgr=0

V>>kT/q时,

V<0且

|V|>>kT/q时,

2、势垒区产生复合电流

当V=0时,Jgr=0

P+N

结为例,当外加正向电压且

V>>kT/q时,

V

比较小时,以

Jr

为主;当

V比较大时,以

Jd

为主。EG越大,则过渡电压值就越高。

对于硅

PN

结,当

V<0.3V时,以

Jr为主;当

V>0.45V时,以

Jd为主。

3、扩散电流与势垒区产生复合电流的比较

以P+N结为例,当外加正向电压且V

在lnI~V特性曲线中,当以

Jr为主时,

当以

Jd

为主时,斜率=q/2kT

斜率=q/kT

在lnI~V特性曲线中,当以JrPN-结的直流电流电压方程课件

外加反向电压且

|V|

>>kT/q时,两种反向电流的比值为

当温度较低时,以

Jg

为主,

当温度较高时,以

Jd

为主,EG

越大,则由以

Jg

为主过渡到以

Jd

为主的温度就越高。外加反向电压且|V|>>kT/q时,两种反向

在常用的正向电压和温度范围,PN

结的正向电流以扩散电流

Jd为主。这时正向电流可表示为

2.2.5正向导通电压

由于反向饱和电流

I0的值极小,当正向电压较低时,正向电流很小,PN

结似乎未导通。只有当正向电压达到一定值时,才出现明显的正向电流。将正向电流达到某规定值(例如几百微安到几毫安)时的正向电压称为

正向导通电压,记作

VF

。在常用的正向电压和温度范围,PN结的正向电流V(V)I(mA)0.20.40.624600.8硅锗V(V)I(mA)0.20.40.624600.8硅锗

影响正向导通电压

VF的因素

I0=AJ0

越大,VF

就越小,因此,

EG↑,则I0↓,VF↑;

NA、ND↑,则

I0↓,VF↑,主要取决于低掺杂一侧的杂质浓度;

T↑,则I0↑,VF↓,因此VF具有负温系数。

VF影响最大的因素是

EG

锗PN

结的

VF约为

0.25

V

,硅

PN

结的

VF

约为0.7

V。影响正向导通电压VF的因素对小结掌握:PN结的直流电流的形成原因、结定律、少子浓度边界

条件、少子浓度分布、扩散电流、反向饱和电流、

正向导通电压的概念、薄基区二极管及其少子、

扩散电流表达式重点:对PN结扩散电流的推导难点:对有外加电压时势垒区两旁载流子的运动方式的理解

以及电子(空穴)电流向空穴(电子)电流的转化第2章习题16、17、18小结补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度补充题2:知:T=300K时,GaAs反偏PN结的最大电场为

确定产生这个最大电场的反偏电压的大小。补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。补充题补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度

补充题2答案:72.5v补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。补充第5次课内容第5次课内容

2.2.6薄基区二极管本小节的结果在第

3

章中有重要用途。

前面讨论少子浓度的边界条件时曾假设

中性区长度远大于少子扩散长度。PN这时中性区外侧的非平衡少子浓度的边界条件是2.2.6薄基区二极管前面讨论少子浓度

薄基区二极管

是指,PN

结的某一个或两个

中性区的长度小于少子扩散长度。PNWB0

这时其扩散电流

Jd

会因为少子浓度的边界条件不同而有所不同。但势垒区产生复合电流

Jgr

的表达式无任何变化。

上图

N

型区内的非平衡少子浓度边界条件为薄基区二极管是指,PN结的某一个或两个

利用上述边界条件,求解扩散方程得到的

N

区中的非平衡少子分布

pn(x)

为式中,

上式实际上可以适用于任意

WB

值。当

WB

→∞时,上式近似为利用上述边界条件,求解扩散方程得到的N区

对于薄基区二极管,WB<<Lp

,利用近似公式,(|u|<<1时),得

上式对正、反向电压都适用。类似地可得

P

区中的非平衡少子分布

np(x)的表达式。薄基区二极管中的少子分布图为对于薄基区二极管,WB<<Lp,利用近

WB<<

Lp

时的空穴扩散电流密度为

与厚基区二极管的扩散电流密度公式相比,差别仅在于分别用

WB

、WE

来代替

Lp

、Ln

WE<<

Ln

时的电子扩散电流密度为当WB<<Lp时的空穴扩散电流密度为PN

结外加电压时,可以分为三种情况:1)零偏

2)正偏

3)反偏2.2

PN

结的直流电流电压方程

P

区N

区PN结外加电压时,可以分为三种情况:2PN

结在正向电压下电流很大

,在反向电压下电流很小

,这说明

PN

结具有单向导电性,可作为二极管使用。

PN

结二极管的直流电流电压特性曲线,及二极管在电路中的符号为PN结在正向电压下电流很大,在反向电压

本节的重点

1、中性区与耗尽区边界处的少子浓度与外加电压的关系。这称为“结定律”,并将被用做求解扩散方程的边界条件。

2、PN

结两侧中性区内的

少子浓度分布

少子扩散电流

3、PN

结的

势垒区产生复合电流P

区N

区xn-xp本节的重点P区N区xn-xp

2.2.1

外加电压时载流子的运动情况

1

外加正向电压时载流子的运动情况2

外加反向电压时载流子的运动情况外加电压时,P区N区中性区内电场很小,所有电压降都落在PN

结区域P

区N

区NA-ND+NA-pp0ND+nn02.2.1外加电压时载流子的运动情况1外加正向电压时载面积为

Vbi

1、外加电压时载流子的运动情况

分析电场强度分布图的变化PNx0平衡时外加正向电压时外加电场内建电场面积为

Vbi-V外加正向电压

V后,PN结势垒高度由qVbi降为

q(Vbi-V),xd

与减小,使扩散电流大于漂移电流,形成正向电流。面积为Vbi1、外加电压时载流子的运动情况PNx0平衡时

势垒高度的降低不能再阻碍

N

区电子向

P

区的扩散及

P

区空穴向

N

区的扩散,于是形成正向电流。由于正向电流的电荷来源是多子,所以正向电流很大。势垒高度的降低不能再阻碍N区电子向PVP区N区0

正向电流密度由三部分组成:

1、空穴扩散电流密度

Jdp

(

N

区中推导

2、电子扩散电流密度

Jdn

(

P

区中推导

3、势垒区复合电流密度

Jr

(

在势垒区中推导

)VP区N区0正向电流密度由三部分组成:

2

外加反向电压时载流子的运动情况外加反向电压

V(V<0)后,PN

结的势垒高度由qVbi

增高到q(Vbi

+V)(V>0),xd

与都增大。PNx0

平衡时外加反向电压时外加电场内建电场面积为

Vbi

+V面积为

Vbi2外加反向电压时载流子的运动情况PNx0平衡

多子面临的势垒提高了,难以扩散到对方区域中去了,但少子面临的势阱反向更深了,所以更容易被反向电场拉入对方区域,从而形成反向电流。由于反向电流的电荷来源是少子,所以反向电流很小。多子面临的势垒提高了,难以扩散到对方区域中去VP区N区0

反向电流密度也由三部分组成:

1、空穴扩散电流密度

Jdp

2、电子扩散电流密度

Jdn

3、势垒区产生电流密度

Jg(Jg与

Jr

可统称为

Jgr

)

VP区N区0反向电流密度也由三部分组成:

例2计算施加反偏电压时,PN结中的电势差、空间电

荷区宽度、最大场强。已知:T=300K时,硅PN结的

掺杂浓度补充题1:设计一个PN结,以满足最大电场和电压要求。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度补充题2:知:T=300K时,GaAs反偏PN结的最大电场为

确定产生这个最大电场的反偏电压的大小。例2计算施加反偏电压时,PN结中的电势差、空间电

例1由已知:零偏置硅PN结的T=300K,例1由已知:零偏置硅PN结的T=300K,

例2计算施加反偏电压时,PN结中的空间电荷区宽度。

已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度解:例2计算施加反偏电压时,PN结中的空间电荷区宽度。

结论假定PN结的掺杂浓度不变,外加电压时空间电荷区的参数变化与零偏时比较:

Vtotal宽度场强最大值正向电压Vbi-V小于xd小于EMAX不加电压Vbi

xdEMAX反向电压Vbi+V大于xd大于EMAX结论Vtotal宽度场强最大值正向电压Vbi-V小于第四次课内容2-2-2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布2-2-3扩散电流2-2-4势垒区产生复合电流2-2-5正向导通电压第四次课内容2-2-2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布

外加正向电压

V后,从而得:

2.2.2势垒区两旁载流子浓度的玻尔兹曼分布可知平衡时在

N

型区与耗尽区的边界处即

xn处的空穴浓度为

根据平衡

PN

结内建电势

Vbi的表达式外加正向电压V后,从而得:2.2.2势垒区两以上两式常被称为“结定律”.对正、反向电压均适用。但在正向时只适用于小注入。

因此,在

N

型区与耗尽区的边界处,即xn

处,

同理,在

P

型区与耗尽区的边界处,即

–xp

处,(2-44)(2-45)以上两式常被称为“结定律”.因此,在N型平衡状态下载流子浓度表达式少子浓度非平衡状态下势垒区两旁载流子浓度表达式说明:当

PN

结有外加电压

V

时,1.中性区与耗尽区边界处的少子浓度等于平衡时的少子浓度乘以

exp(qV/kT)。2.PN

结的P区、N

区内均存在过剩少数载流子。多子浓度多子浓度少子浓度平衡状态下载流子浓度表达式少子浓度非平衡状态下势垒区两旁载流

例3施加正向电压时,

求PN结空间电荷区边缘处少子 空穴浓度。已知:T=300K时,硅PN结的掺杂浓度说明:当PN结有外加正向电压V时,中性区与耗尽区边界处的少子浓度可以增加几个数量级,但仍与多子浓度小得多,仍满足小注入。例3施加正向电压时,求PN结空间电荷区边缘处少子

2.2.3扩散电流

确定少子浓度的边界条件,少子浓度表达式中性区内非平衡少子浓度分布少子电流密度方程,即可得到少子扩散电流(

Jdp

Jdn

)思路2.2.3扩散电流思路

假设中性区的长度远大于少子扩散长度,则根据结定律可得

少子浓度的边界条件

也可用小注入浓度表示

非平衡少子边界条件1、少子浓度的边界条件

假设中性区的长度远大于少子扩散长度,则根据结定

外加正向电压且

V>>kT/q(室温下约为

26

mV

)时,非平衡少子的边界条件是

外加反向电压且|V|>>kT/q时,非平衡少子的边界条件是外加正向电压且V>>kT/q(室直流情况下,又因,故可得

由第一章的式(1-23,p5),N

区中的空穴扩散方程为式中,,称为空穴的

扩散长度,典型值为

10

m

。(1-23)

2、中性区内的非平衡少子浓度分布

直流情况下,又因P

区内的非平衡少子电子也有类似的分布,即

N

区足够长(>>Lp

)时,利用

pn(x)的边界条件可解出系数

A、B,于是可得

N

区内的非平衡少子空穴的分布为

扩散方程的通解为P区内的非平衡少子电子也有类似的分布,即2.外加正向电压时

PN

结中的少子分布图P区N区

注入

N

区后的非平衡空穴,在

N

区中

一边扩散一边复合,其浓度随距离作指数式衰减。衰减的特征长度就是空穴的扩散长度

Lp。每经过一个

Lp

的长度,非平衡空穴浓度降为

1/e

2.外加正向电压时PN结中的少子分布图P区P区N区

外加反向电压时

PN

结中的少子分布图

N

区中势垒区附近的少子空穴全部被势垒区中的强大电场拉向

P

区,

所以空穴浓度在势垒区边界处最低,随距离作指数式增加,在足够远处恢复为平衡少子浓度。减少的空穴由

N

区内部通过热激发产生并扩散过来补充。

P区N区外加反向电压时PN结中的少子分布图

假设中性区内无电场,所以可略去空穴电流密度方程中的漂移分量,将上面求得的

pn(x)

同理,P

区内的电子扩散电流密度为(2-52a)(2-52b)

3、扩散电流代入空穴扩散电流密度方程,得

N

区内的空穴扩散电流密度为假设中性区内无电场,所以可略去空穴电流密度方程PN

结总的扩散电流密度

Jd

结论:正向电压下,电流方向:根据假设条件,电子电流、空穴电流分别为连续函数,且为常量,扩散电流密度

Jd

也为连续函数、常量Jd称为理想二极管方程,描述PN

结电流电压特性PN结总的扩散电流密度Jd为结论:正当

V=0

时,Jd=0当

V>>kT/q时,当

V<0且

|V|>>kT/q时,Jd=-J0IVI00PN

结二极管电流电压特性当V=0时,Jd=0IVI00PN结二极管电流

室温下硅

PN

结的

J0值约为

10-10A/cm2的数量级。

由于当

V<0且

|V|>>kT/q后,反向电流达到饱和值

I0

,不再随反向电压而变化,因此称

I0为

反向饱和电流

。J0乘以

PN

结的结面积

A,得

4、反向饱和电流

室温下硅PN结的J0值约为10-10A/c

J0

的讨论

与材料种类的关系:EG↑,则ni↓,J0↓;

与掺杂浓度的关系:ND

、NA↑,则pn0、np0↓,J0↓,主要取决于低掺杂一侧的杂质浓度;

与温度

T的关系:T↑,则ni↑,J0↑,因此J0具有正温系数。这是影响

PN

结热稳定性的重要因素。对J0的讨论

2.2.4势垒区产生复合电流

由式(1-17),净复合率

U可表为

已知在中性区里,

1、势垒区中的净复合率

2.2.4势垒区产生复合电流由式(1-1由第

2.1

节已知,当外加电压

V

时,

在势垒区中,平衡时,

可见:

V=0

时,np=ni2

,U=0

,不发生净复合;当

V>0

时,np>ni2

,U>0,发生净复合;当

V<0

时,np<ni2

,U<0,发生净产生。由第2.1节已知,当外加电压V时,

为简化计算,可假设在势垒区中n与p

相等,且不随

x

而变化,即则为简化计算,可假设在势垒区中n与p相

V=0

时,Jgr=0

V>>kT/q时,

V<0且

|V|>>kT/q时,

2、势垒区产生复合电流

当V=0时,Jgr=0

P+N

结为例,当外加正向电压且

V>>kT/q时,

V

比较小时,以

Jr

为主;当

V比较大时,以

Jd

为主。EG越大,则过渡电压值就越高。

对于硅

PN

结,当

V<0.3V时,以

Jr为主;当

V>0.45V时,以

Jd为主。

3、扩散电流与势垒区产生复合电流的比较

以P+N结为例,当外加正向电压且V

在lnI~V特性曲线中,当以

Jr为主时,

当以

Jd

为主时,斜率=q/2kT

斜率=q/kT

在lnI~V特性曲线中,当以JrPN-结的直流电流电压方程课件

外加反向电压且

|V|

>>kT/q时,两种反向电流的比值为

当温度较低时,以

Jg

为主,

当温度较高时,以

Jd

为主,EG

越大,则由以

Jg

为主过渡到以

Jd

为主的温度就越高。外加反向电压且|V|>>kT/q时,两种反向

在常用的正向电压和温度范围,PN

结的正向电流以扩散电流

Jd为主。这时正向电流可表示为

2.2.5正向导通电压

由于反向饱和电流

I0的值极小,当正向电压较低时,正向电流很小,PN

结似乎未导通。只有当正向电压达到一定值时,才出现明显的正向电流。将正向电流达到某规定值(例如几百微安到几毫安)时的正向电压称为

正向导通电压,记作

VF

。在常用的正向电压和温度范围,PN结的正向电流V(V)I(mA)0.20.40.624600.8硅锗V(V)I(mA)0.20

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