常用晶体及光学玻璃折射率表

常用晶体及光学玻璃折射率表物质名称分子式或符号折射率熔凝石英SiO21.45843氯化钠NaCl1.54427氯化钾KCl1.49044萤??？石CaF21.43381冕牌玻璃K61.51110K81.51590K91.51630重冕玻璃ZK61.61263ZK81.61400钡冕玻璃BaK21.53988火石玻璃F11.60328钡火石玻璃BaF81.62590重火石玻璃ZF11.64752ZF51.73977ZF61.75496液体折射率表物质名称分子式密度温度℃折射率丙醇CH3COCH30.791201.3593甲CHOH30.794201.3290乙CHOH0.800201.3618苯CH661.880201.5012二硫化碳CS21.263201.6276四氯化碳CCl41.591201.4607三氯甲烷CHCl31.489201.4467乙醚CH-0・CH0.715201.3538甘油C3H，31.260201.4730松节油0.8720.71.4721

橄榄油0.9201.4763水HO21.00201.3330DMF熔点-61℃,沸点152.8℃,76℃(5.2kPa),相对密度0.9445(25/4℃),闪点58℃,自燃点445℃。对多种有机化合物和无机化合物均有良好的溶解能力和化学稳定性。25℃的蒸气压为0.493kPa。1.4269晶体的折射率no和ne表物质名称分子式none冰H021.3131.309氟化镁MgF21.3781.390石英Si021.5441.553氯化镁MgO・HO21.5591.580锆石ZrO2・SiO21.9231.968硫化锌ZnS2.3562.378方解石CaO・CO21.6581.486钙黄长石2Ca0・Al203・SiO21.6691.658菱镁矿ZnO-CO21.7001.509刚石Al?1.7681.760淡红银矿3AgS-ASS2 232.9792.711注：n、n分别是晶体双折射现象中的“寻常光”的折射率和“非常光”的折射率。????????????????????????????资料来源：华东师大《光学教程》折光率色散双折射率硬度比重真钻石2.420.044无103.52“苏联钻”2.150.060无8.55.6-6注：“苏联钻”，立方氧化错钻石一般情况下，基础玻璃的折射率为1.5—1.7,而斜锆石的折射率为2.2,锆英石的折射率为1.94；SnO2可以降低釉熔体的表面张力，且具有较高地折射率(2.09)CR-39即折射率1.499单体有机高分子化学日开发出新型热固性树脂2004-7-289:04:29 来源：中国化工网日前，日本NittoDenkoCorp公司开发出一种折射系数为1.7的芳香族热固性树脂，高于折射率1.56的环氧树脂，且这种树脂的耐热性也比环氧树脂高30%。该公司称，折射系数的提高是由于在其中添加了二氧化钛、二氧化错及其它金属氧化物的纳米级粒子。据介绍，这种树脂主要用途在电器领域，包括用于涂料中可提高白色发光二极管(LEDs)的发光率和吸光率，液晶显示器(LCDs)和其它显示器的防反射膜，以及在电荷耦合器件(CCDs)中作为微透镜使其能接受大量光等。金红石型和锐钛矿型TiO2颜料的平均折射率分别为2.71和2.57,用2.71来计算，氧化锌颜料的相对密度为5.45〜5.65，吸油度量为10〜25g/100g，折射率为2.03〜2.08。商业上98%颜料级硫化锌的相对密度为4.0〜4.1,折射率为2.37三氧化锑颜料的折射率约为2.0,名称？？折射率？???？透光范围？?？蒸发温度(℃) 蒸发源 应用三 氧 化 二铝1.62/550n 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜多层膜氟化铈 1.63/500nm 300〜50001429钼，钽，电子枪增透膜、多层膜氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜冰晶石 1.33/500nm 250〜140001000钼，钽，电子枪增透膜氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜透明导电膜料2.0/500nm 400~8001450电子枪，Al2O3透明导电膜氟化钙1.23-1.42/550nm150〜120001280~1400钼，钽，鸨增透膜氟化镁1.38/550nm 130~70001300~1600钼，钽，鸨增透膜、多层膜氧化镁1.7/500nm 200~8000 2000电子枪 多层膜错钛混合物2.1/500nm 400~70002300鸨，电子枪增透膜氧化铳1.89/500nm 250~5000 2430电子枪 紫外多层膜二氧化硅1.45/500nm 200~2000 1600~2200电子枪 多层膜一氧化硅1.55/550nm 600〜80001200〜1600钥，钽，鸨增透膜、保护膜氧化二钽2.1/500nm保护膜氧化二钽2.1/500nm400~7000 1950增透膜氧化钛2.35/500nm400~120001700~2000氧化钛2.35/500nm400~120001700~2000多层膜、分光膜化钛2.35/500nm400~120002200化钛2.35/500nm400~120002200增透膜、多层膜1.87/550nm400~800025001.87/550nm400~80002500增透膜、多层膜2.05/500nm250~700025002.05/500nm250~70002500增透膜、多层膜三氧化二钛2.35/500nm400~120001800~2000钽，鸨电子枪增透增透膜、多层膜三氧化二钛2.35/500nm400~120001800~2000钽，鸨电子枪增透膜、多层膜氟化镧1.58/500nm220~140001450钼，电子枪增透膜硅3.4/3000nm1000~90001500电子枪外膜锗4.4/2000nm1700~230001300~1500电子枪，鸨红外膜硒化锌2.58/550nm600~15000600~900钼，钽，电子枪红外膜硫化锌2.4/1200nm氟化镧1.58/500nm220~140001450钼，电子枪增透膜硅3.4/3000nm1000~90001500电子枪外膜锗4.4/2000nm1700~230001300~1500电子枪，鸨红外膜硒化锌2.58/550nm600~15000600~900钼，钽，电子枪红外膜硫化锌2.4/1200nm400~140001100钼，钽，电子枪多层膜氟化钇1.49/632.8nm200~150001100钥红外膜（10.6mm）、增透膜氟化错1.51/632.8nm220~150001400~1600钼，电子枪红外膜（10.6mm）、增透膜氟化铝1.35/500nm 200~8000800~1000电子枪，钼，钽紫外膜氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000粕 紫外膜氧化钆 1.8/550nm 320~150002200 增透膜五氧化三钛2.35/500nm 400~120001750~2000钛酸钡（BaTiOj单晶具有优异的光折变性能具有高的自泵浦相位共轭反射率和二波混频（光放大）效率，在光信息存储方面有巨大的潜在应用前景；同时它也是重要的衬底基片材料。晶体参数:晶体结构四方Tetragona(4m):13oC<T<132oCa=3.99,c=4.04,(at26°C)生长方法TSSG(TopSeededSolutionGrowth)顶部籽晶法熔点1612oC折射率515nm633nm800nmno2.49122.41602.3681ne2.42472.36302.3235透过波长范围0.43-6.30