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1、(19 )中华人民共和国国家知识产权局cl(12)发明专利申请fr(10)申请公布号盈CN104862656A(43 )申请公布日2015.08.26(21 )申请号 CN201510314281.2(22)申请日 2015.06.10(71 )申请人光驰科技(上海)有限公司地址200444上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号(72 )发明人李志勇(74 )专利代理机构上海申蒙商标专利代理有限公司代理人徐小蓉(51) Int.CI权利要求说明书说明书幅图(54 )发明名称双向沉积镀膜装置及镀膜方法(57)摘要本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是双 向沉积镀膜装置及镀膜方法，其特征在于：所述

2、 工件伞架的上方和下方分别固定设置有溅射靶材 和蒸发源，位于所述工件伞架下方的所述蒸发源 由与其对应的离子源辅助作用对所述基片的一侧 表面进行的镀膜，位于所述工件伞架上方的所述 溅射靶材由与其对应的射频源激发并对所述基片 的另一侧表面进行镀膜。本发明的优点是：可以 实现双面同时镀膜的双向沉积真空镀膜装置，以达到同一时刻两个膜料源同时沉积；使需要双面 镀膜的基片的镀膜环节减少，有助于镀膜效率和 质量的提高。法律状态法律状态公告日法律状态信息法律状态2015-08-262015-08-262015-09-232015-09-232017-12-08公开公开实质审查的生效 实质审查的生效 授权公开公开 实质审查的生效 实质审查的生效 授权权利要求说明书双向沉积镀膜装置及镀膜方法的权利要求说明书内容是请下

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