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文档简介

1、. 层间介质层厚度研究实验目的:测定各半固化片的压合厚度,了解各种半固化片压合厚度值及多半固化片压合厚度是否为各单半固化片的代数和。对影响层间介质层厚度的各因素层压程序、层间所处的位置、铜厚度、层残铜率进展分析研究。推导层间厚度的计算公式。实验原理及方法:各种半固化片的压合厚度:目的:半固化片的压合厚度和加和性实验选择1080, 2116, 3313, 7628, 1080*2, 2116*2, 3313*2, 7628*2, 1080+2116, 1080+3313, 1080+7628, 2116+7628,1080*2+2116, 1080+7628*2, 2116+7628*, 762

2、8*3共16种半固化片组合方式以如图2方式进展层压。半固化片的尺寸为18*24inch。层压程序选择par02(0.8)和par03(1.6)以比拟层压程序的影响。为了准确测定半固化片厚度,以铜箔光面接触半固化片。经蚀刻去除外层铜箔后用千分尺测定,考虑半固化片的溢胶,从半固化片边缘测定到半固化片厚度根本稳定,确定流胶对板边板厚度影响的情况,然后在板选取选取25个位置,读取其厚度数据。(是否为只有化片,没有光板或芯板);层压程序对半固化片压合厚度的影响:目的:程序对厚度的影响;分析层压现有程序考察升温速率快慢加高压早晚对压合厚度的影响。应用两种较为极端的情况:升温速率快加高压晚和升温速率慢加高压

3、早,分别选用第二套、第三套压合程序压合16种半固化片,蚀刻后取16个点用千分尺测量压合厚度。层压叠层与上述实验一致。程序2:步骤压力温度RAMPminSET ValbarHoldminRAMPminSET ValbarHoldmin1020100140102543101016053572452521025404320201800510431520160561040010140070303025805802030153015程序3:步骤压力温度RAMPminSET ValbarHoldminRAMPminSET ValbarHoldmin10201551601025431520180035725

4、5152104541043515180051043010160061040010140070303025805802030153015铜面残铜率对层间介质厚度的影响:目的:推导公式,(须分析化片叠层对压厚的影响)3.1、一面线路一面铜面层间介质层厚度情况:根据理论推导:当一面为线路面一面为大铜面时,介质层厚度计算公式为:实测厚度=理论厚度*系数铜厚*1残铜率设计残铜率的板按下列图叠层方式进展层压,残铜率分别为10%、25%、50%、75%,半固化片选择1080, 2116, 3313, 7628, 1080*2, 2116*2, 3313*2, 7628*2, 1080+2116, 1080+

5、3313, 1080+7628, 2116+7628,1080*2+2116, 1080+7628*2, 2116+7628*, 7628*3。层芯板选择1.2mm 1/1Oz,大小14inch*16inch。上下板面设计均匀横线,线宽10mil,L2面线间距30mil,为减小流胶量,将层流胶边改为如下列图的形式,灰色局部为边长为300mil的正六边形铜面,间距为10mil。排板时按照正常四层板叠层顺序,每一块板分别用一种半固化片组合,同一块板上下固化片组合一样。铜箔光面接触半固化片,以方便准确读取半固化片压合厚度。层压时采用par03(1.6)层压程序。层压板在去除5cm边框的厚度均匀区域均

6、匀取4*4点阵。做切片,通过金相显微镜测量半固化片的厚度。更改后的流胶边:3.2、两面线路层间介质层情况:根据理论推导:当两面为线路面时,介质层厚度计算公式为:实测厚度=理论厚度*系数铜厚1*1残铜率1-铜厚2*1-残铜率2层压开料选择2116, 3313, 7628, 106*2, 1080*2, 1080+3313, 106+2116, 106+7628, 2116+1080*2, 3313+7628*2, 7628*3共11种半固化片组合。排板时每一块板分别用一种半固化片组合。层压时采用Par03(1.6)层压程序。其他同2.1试验。层压板在去除5cm边框的厚度均匀区域均匀取4*4点阵。

7、做切片,通过金相显微镜测量半固化片的厚度。外层半固化片层压差异:层压过程中,由于外层与热源距离有差异,环氧树脂与铜面的传热速率有差异。因此,有必要考察此种温度差异对半固化片厚度的影响。采用普通8层板的叠层方式进展层压。层压开料选择2116,3313,7628,106*2,1080*2共 5种半固化片组合。排板时按照正常8层板叠层顺序,每一块板分别用一种半固化片组合,同一块板上下固化片组合一样。层压时采用Par03(1.6)层压程序。层压后在厚度均匀区域取均匀4*4点阵,做切片并用金相显微镜测量半固化片压合厚度。实验数据及处理:(实验原始数据及处理见:半固化片压合数据综合分析流胶对板边半固化片厚

8、度的影响:原始数据及处理见:半固化片压合数据综合分析中流胶对板边厚度的影响表1、压合后板边半固化片厚度变化 离板边距离 mm半固化片类型0123451080*10.060.0710.0760.0760.0740.0763313*10.0840.1060.1150.1090.1140.1152116*10.0950.110.1150.1190.1240.1197628*10.1680.1860.2020.210.2090.2071080*20.0820.1190.1540.1680.1690.1683313*20.140.1660.1920.2080.2180.2182116*20.1680.2

9、010.2210.2440.2490.2497628*20.2510.3510.3850.3910.3950.41080+33130.140.1610.1810.1890.1990.1991080+76280.1840.240.2690.2910.2960.2961080*2+21160.1950.2070.2290.2390.2610.2731080+7628*20.3010.4140.4720.4810.4850.4932116+7628*20.3440.3980.470.520.5370.547628*30.4050.5470.5720.5980.6030.61结论:A、由于层压过程中,

10、树脂在一定阶段具有流动性,这使得树脂可以填充到铜面之间的间隙中,也使板边树脂向外溢流,因此整体厚度呈现由板边向板中逐渐增厚直至稳定的趋势。B、不同含胶量的板到达稳定厚度离的板边距离不一致,但根本在板边5CM处均可以到达稳定,可认为5CM是流胶区域的最大值。C、各种半固化片组合的压合厚度与单半固化片的压合厚度具有加和性。 为了控制板边流胶对板厚度的影响,将板边阻流点设计进展更改如上图所示。各半固化片厚度数值与不同压合程序厚度值比照: 原始数据及处理见:半固化片压合数据综合分析中压合程序对介质层厚度影响半固化片类型程序2压合厚度程序3压合厚度两种压合程序厚度差异相对偏差100%平均值10800.0

11、7920.081470.002272.82566750.08033533130.109090.10744-0.00165-1.5240380.10826521160.124240.12241-0.00183-1.4838840.12332576280.205750.20012-0.00563-2.7742870.202935应用两种不同的层压程序,拟合得到的半固化片理论厚度差异很小,可认为层压程序对半固化片理论厚度没有影响。残铜对介质厚度的影响:原始数据及处理见:半固化片压合数据综合分析中流胶对板边厚度的影响 = 1 * GB2 、无论是单种半固化片或者是多种半固化片的组合,其压合厚度均随残铜

12、率增长而增长。 = 2 * GB2 、压合厚度于残铜率具有相当的线性规律。由于环氧树脂固化过程中体积收缩率小,层压过程中树脂填充到铜层空隙中,引起层压厚度减薄。因此可得到计算层压厚度的计算公式:实测厚度=理论厚度+铜厚*残铜率 = 3 * GB2 、计算公式反推各种组合的理论厚度,发现可获得一致的结论,公式具有可靠性。 = 4 * GB2 、根据物质守恒原理,理论上各种半固化片假设无明显的相互反响而发生化学反响而又挥发性物质逸出,半固化片的组合理论厚度应为各单半固化片的理论厚度总和。分析实验数据得到了与理论根本一致的结论。半固化片所处位置的影响:原始数据及处理见:半固化片压合数据综合分析中外层

13、半固化片厚度的差异外层介质层厚度相对偏差小于2%,无明显厚度差异。从差异值上看正差异与负差异均匀分布,有一定的随机性。整体数据分析:见半固化片压合数据综合分析中总体分析及结论综合考虑上述各种条件下对层间厚度的影响,得到各种半固化片的理论压合厚度:板固化片类型1061080331321167628理论厚度mm0.05290.07970.10660.12220.2011总结:各半固化片厚度数值:考虑到层压过程中半固化片的流胶,将各理论半固化片的厚度*0.97,得到下表数据:板固化片类型1061080331321167628理论实际厚度mm0.05130.07730.10340.11850.1951

14、工程计算层间厚度时直接应用上表数据进展介质厚度计算。介质层厚度计算公式:类型一:芯板与铜箔之间单面填胶 类型二:层芯板之间双面填胶类型一:实测厚度=理论厚度铜厚*1残铜率类型二:实测厚度=理论厚度铜厚1*1残铜率1-铜厚2*1-残铜率2半固化片的使用:由于玻璃纤维布有一个固有的厚度,层压时玻璃纤维根本不会发生形变,所以层间介质层厚度值必须小于玻璃纤维布的厚度。否则会导致缺胶或厚度均匀较差表5 半固化片玻璃纤维布厚度半固化片类型1080331321167628玻璃纤维布厚度0.0530.010.0840.010.0940.010.180.02根据介质层厚度计算公式可以求出各种单半固化片允许的最低

15、残铜率如表6。表中残铜率如果为类型一,则表示芯板铜面残铜率,如果为类型二,则为两铜面残铜率的和。表6:单半固化片允许最小两面残铜率之和:10803313211676281Oz铜面残铜率%126.4128.7114.5135.92Oz铜面残铜率%137.1165.7157.3168.04、同一款板同一层不同位置的差异边缘与中部的差异板角mm板边缘mm板中部mm板中部平均值-板角平均值1.296,1.269,1.248,1.254,1.2481.307,1.313,1.285,1.310,1.2781.308,1.303,1.285,1.306,1.316平均值=1.263平均值=1.298平均值

16、=1.3040.041mm由于板边缘较板中部溢胶量偏大,导致板边缘厚度偏薄,其厚度控制相对较差。采取将阻抗线设计到板中部,假设板的尺寸较大,需将副边宽度加宽,便于厚度精度控制。5、误差分析:从实验结果的相对偏差数值可以看出,半固化片厚度不稳定性较为明显,虽然75%的数据可以保持在相对偏差5%的围,单仍然有5%的数据偏差超过8%,个别数据甚至相对偏差超过10%。分析原因有三: = 1 * GB2 、来料板固化片厚度不稳定。根据半固化片的制造流程来看,环氧树脂分子量与分子量分布不均匀,环氧树脂、固化剂、固化促进剂比例不均衡,玻璃纤维编织密度不均一,含胶量不稳定等多方面因素都可能造成来料半固化片压合

17、厚度的差异。 = 2 * GB2 、层压机不平整。Burkle层压机的不平整度为50um,对于厚度小、半固化片数量少的板,可造成厚度差异较大。 = 3 * GB2 、层压过程中板固化片的微观不均匀性。当板面残铜率低于表6中的极限值时,根据以下三切片照片的形态推断,将发生以下两种不利于准确控制层间厚度的情况。A、层压芯板扭曲,造成线路面之间不平行。当半固化片为7628时,可观察到的同一导线两端厚度差异最大值到达了0.4mil(10um)。图8说明了造成这种情况的原因。图8:铜面不平行示意图芯板扭曲的程度与芯板本身的刚度有关。芯板越薄,变形性越大,就越容易出现这种情况。nei-wai实验用的是0.

18、25mm的芯板,与用0.51mm芯板的ct-test2相比,这种情况更加明显。当这种情况出现在阻抗板的阻抗线上时,必定使阻抗发生无法预料的变化。B、介质层厚度不均一。当半固化片为7628时,同一半固化片层的厚度差异最大可到达0.8mil20um。图9说明了这一情况的产生的原因。A点处和B点处玻璃纤维密不同,承受一样挤压力时,形变大小也有很大的区别,玻璃纤维密度低的A点更容易变形,当A点处两面有线路通过时,线路面之间的距离就小于B点的半固化片厚度。层间厚度如果出这种随机性差异,准确阻抗控制就无法做到。图9 厚度不均示意图因此,对于这种情况,在设计阻抗板叠层的时候应该尽量防止。可行的操作有以下几点

19、:对于残铜率非常少的线路面,采用板铺流胶块的方法提高残铜率。必须在客户允许的情况下,可采用。对于线路面向对时,根据理论厚度获得层间厚度计算值,如果该计算值低于板固化片玻璃纤维厚度,则采用含胶量高的半固化片组合取代,如用1080+2116代替单7628。生产板验证数据分析:比拟了利用新旧算法计算的116款生产板数据与终检实际测定数据:原始数据及处理见: 生产板厚度公式验证旧算法新算法款数百分比款数百分比偏差大于4mil1613.8%43.4%偏差大于3mil2723.3%119.5%偏差大于2mil4437.9%2319.8%偏差大于5%1714.7%43.4%对应用新算法五款与实际测量厚度超过4mil的板进展了切片分析:6a164001ac00000a8a00802a0.5oz+plating0.048 0.5oz+plating0.052 0.5oz+plating0.0527628*30.557 2116*10.117 2116*10.111oz0.031 0.5oz0.017 1oz0.033core 0.510.512 core 0.210.205 core 0.150.1551oz0.033 0

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