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文档简介

1、Virtual ProcessOutline 緣由 Design Rule Non-document Device Command file Model Design Flow緣由 原規劃Full-Custom Design Kit教育訓練使用，在於避開晶圓廠授權問題，避免違反相關規定。 94年度應用於積體電路認證 95年度正式用於Full-Custom Design Kit教育訓練Design RuleCIC 0.18um 1.8V/3.3V 1P6M Virtual Mixed Mode/RFCMOS Process Layout RuleCIC 0.18um 1.8V/3.3V 1P6M

2、 Virtual Mixed Mode/RFCMOS Process Electrical Design RuleCIC 0.18um 1.8V/3.3V 1P6M Virtual Mixed Mode/RFCMOS Process Device Formation Non-document Model for H-Spice Command file for Calibre, include DRC, LVS, RCE Technology file for Virtuoso Technology file for LakerDevice(MOS) 1.8V standard Vt NMOS

3、 1.8V standard Vt NMOS in Deep N-Well 1.8V standard Vt PMOS 3.3V standard Vt NMOS 3.3V standard Vt NMOS in Deep N-Well 3.3V standard Vt PMOS 1.8V low Vt NMOS 1.8V low Vt PMOS 3.3V low Vt NMOS 3.3V low Vt PMOS 3.3V zero Vt NMOS 1.8V zero Vt NMOS Device (Resistor ) RSNWELL RNND RNPD RNNPO RNPPO RNHR10

4、00 RSND RSPD RSNPO RSPPO RMx Device (Capacitor ) MIMCAPS Device(Diode) DP NP Device(Inductance) L_SLCR20KCommand File DRC LVSModelDesign Flow Pre-Simulation H-Spice Layout Virtuoso、Laker DRC Calibre LVS Calibre RCE Calibre Post-layout Simulation H-SpiceQ&A 虛擬製程該如何申請呢? ANS:寄送製程資料保密同意書即可 虛擬製程可否與TSMC製程相容呢? ANS: 不行 是否提供PDK呢? ANS:目前尚未提供 是否提供ADS Design Kit

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